[发明专利]一种化学试验台清洗装置

权利要求书

1.一种化学试验台清洗装置，其特征在于，所述清洗装置包括：

柜体，所述柜体具有一容置空间；

第一置物柜，所述第一置物柜设置在所述容置空间内；

第二清洗柜，所述第二清洗柜设置在所述第一置物柜的下方，其中，所述第二清洗柜包括：

振动板，所述振动板设置在所述第二清洗柜底部；

喷雾网罩，所述喷雾网罩设置在所述第二清洗柜的背面内侧，且所述喷雾网罩与所述振动板相垂直；

第一照明灯，所述第一照明灯设置在所述喷雾网罩上方；

其中，所述振动板上放置待清洗玻璃仪器，通过超声波对所述待清洗玻璃仪器进行清洗；

分隔板，所述分隔板设置在所述第一置物柜和所述第二清洗柜之间；

台面板，所述台面板设置在所述柜体上；

第一立板，所述第一立板与所述台面板连接，且所述第一立板与所述台面板具有一夹角；

柜门，所述柜门设置在所述台面板的下方，且所述柜门与所述柜体相配套。

2.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括：

第二照明灯，所述第二照明灯设置在所述第一立板的顶端，且所述第二照明灯朝向所述台面板设置。

3.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括：

第一操作面板，所述第一操作面板设置在所述第一立板的一侧靠近边缘处。

4.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括：

第二操作面板，所述第二操作面板设置在所述第一操作面板的左侧。

5.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第一操作面板包括：

电源开关，所述电源开关靠近所述第一操作面板的顶端设置。

6.如权利要求5所述的清洗装置，其特征在于，所述第一操作面板还包括：

调节按钮，所述调节按钮设置在所述电源开关的下方。

7.如权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，所述第二操作面板包括：

显示单元，所述显示单元靠近所述第二操作面板的顶端设置。

8.如权利要求7所述的清洗装置，其特征在于，所述第二操作面板还包括：

时间重置按钮，所述时间重置按钮设置在所述显示单元下方的第一位置处。

9.如权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述第二操作面板还包括：

时间调节按钮，所述时间调节按钮设置在所述显示单元下方的第二位置处，其中，所述第二位置不同于所述第一位置。