[发明专利]基板清洗设备

说明书

本发明提供一种基板清洗设备，通过设置框形的分隔构件在直接水洗室内划分出直接水洗区域和过渡水洗区域，并在直接水洗室的直接水洗区域底部和过渡水洗区域底部分别设置第一回收孔和第二回收孔来对已使用过的清洗水进行回收，可将直接水洗室内已使用过的清洗水分成光阻及异物浓度高和低的两部分，并可选择性地分开回收使用，纯度高的清洗水会从第一回收孔直接进入直接水循环水箱，而光阻及杂质浓度高的清洗水则可通过第二回收孔有选择性的回收到直接水循环水箱或置换水循环水箱，从而可有效提高过滤器的使用寿命，进而提高设备的嫁动率，降低产线生产成本。

技术领域

本发明涉及显示器的制程领域，尤其涉及一种基板清洗设备。

背景技术

在显示技术领域，液晶显示器(Liquid Crystal Display，LCD)与有机发光二极管(Organic Light Emitting Diode，OLED)显示器等平板显示器已经逐步取代CRT显示器，广泛的应用于液晶电视、手机、个人数字助理、数字相机、计算机屏幕或笔记本电脑屏幕等。

显示面板是LCD、OLED的重要组成部分。不论是LCD的显示面板，还是OLED的显示面板，通常都具有一薄膜晶体管(Thin Film Transistor，TFT)基板。以LCD的显示面板为例，其主要是由TFT基板、彩膜(Color Filter，CF)基板以及配置于两基板间的液晶层和密封框胶(Sealant)所构成，其成型工艺一般包括：前段阵列(Array)制程(薄膜、黄光、蚀刻及剥膜)、中段成盒(Cell)制程(TFT基板与CF基板贴合)及后段模组组装制程(驱动IC与印刷电路板压合)。其中，前段Array制程主要是形成TFT基板，以便于控制液晶分子的运动；中段Cell制程主要是在TFT基板与CF基板之间添加液晶；后段模组组装制程主要是驱动IC压合与印刷电路板的整合，进而驱动液晶分子转动，显示图像。

目前在平板显示工艺制程中，清洗、去水干燥、涂布、预烘烤、曝光、显影和后烘烤是黄光制程的主要制程单元，其中，清洗单元的作用是除去玻璃基板上的尘埃颗粒(Particle)，去水干燥单元的作用是除去基板上的水分且增加表面的疏水性，涂布单元的作用是在基板上涂一层光阻，预烘烤单元(其常用温度为90-130℃)的作用是除去光阻中的溶剂并增加光阻与基板的黏附性，曝光单元的作用是利用光罩(MASK)在基板上对光阻定义图形，显影单元的作用是使光阻在基板上留下特定图案而显示图形，后烘烤单元的作用使图案化的光阻在玻璃基板上进一步固化。

涂布前的清洗制程对基板的洁净度要求高，特别是对于低温多晶硅(LowTemperature Poly Silicon，LTPS)制程，超过1μm的尘埃残留在基板上就会造成涂布不良，故要求涂布前将基板表面彻底清洗干净，因用水量较大，会将后端使用过的水经过滤器(Filter)过滤后供给给前段使用。而显影制程由于光阻与显影液的化学反应会产生大量的光阻残渣，需要经过置换水洗和直水洗两段水洗制程才能清洗干净，首先在置换水洗室中向刚进行药液处理后的基板主面供给清洗水而利用清洗水置换基板上的药液，接着在直接水洗室中向基板的主面供给纯水而水洗基板，此时在直接水洗室中清洗基板时使用纯水(新水)，在置换水洗室中清洗基板时，将在直接水洗室中使用的水经Filter过滤后回收到循环水箱中的水用作清洗水(循环水)的水，由此节约纯水的使用量；涂布前的清洗及显影段的水洗均会使用Filter，在实际生产中，因显影段回收再利用的水中含有光阻的浓度较高，显影段所使用的Filter寿命往往低于平均使用寿命(3个月)，特别对于平坦层(PLN)制程，Filter使用寿命不足1个月，而Filter价格昂贵，且频繁更换Filter会降低设备嫁动率，影响产能。故需改善现有的水洗水回收机构，降低回收水中的光阻浓度，从而提高Filter的使用寿命，降低产线生产成本。

发明内容

本发明的目的在于提供一种基板清洗设备，可有效提高过滤器的使用寿命进而提高设备嫁动率，降低产线生产成本。

为实现上述目的，本发明提供一种基板清洗设备，包括水洗处理室、传送机构及清洗水供给机构；