[发明专利]用于制备多孔模板的衬底及制备方法、多孔模板的制备方法

权利要求书

1.用于制备多孔模板的衬底，其特征在于，依次包括基板、金属钛薄膜、多孔氮化钛薄膜。

2.根据权利要求1所述的用于制备多孔模板的衬底，其特征在于，所述多孔氮化钛薄膜为由金属钛薄膜表面产生氮化反应开裂形成的多孔氮化钛薄膜。

3.根据权利要求1所述的用于制备多孔模板的衬底，其特征在于，所述金属钛薄膜的厚度为1-12nm。

4.根据权利要求1所述的用于制备多孔模板的衬底，其特征在于，所述多孔氮化钛薄膜的厚度为3-15nm。

5.根据权利要求1所述的用于制备多孔模板的衬底，其特征在于，所述多孔氮化钛薄膜的孔径在3-10nm之间。

6.一种用于制备多孔模板的衬底制备方法，其特征在于，包括以下制备方法：

(1)在基板上沉积金属钛薄膜，得到镀钛基板；

(2)将镀钛基板转移到金属有机物化学气相沉积生长设备中；

(3)在氢气气氛中对镀钛基板在600-680℃保温预烘烤3-10min；

(4)通入NH₃和H₂混合气体，在600-680℃温度条件下进行对镀钛基板进行氮化3-15min，金属钛薄膜表面由于氮化反应开裂成的多孔氮化钛薄膜。

7.根据权利要求6所述的用于制备多孔模板的衬底制备方法，其特征在于，步骤(1)所述在基板上沉积金属钛薄膜，得到镀钛基板，具体为：

在室温条件下，利用机械泵和分子泵两级泵将磁控溅射镀膜设备的反应室真空度抽至5×10^-4Pa以下，待真空稳定后，向真空室中通入10-20sccm的纯Ar气并调节气压至0.5-1.0Pa，调节溅射功率至75-90W，预溅射2-5min之后，在衬底上沉积1-12nm的Ti金属薄膜。

8.根据权利要求6所述的用于制备多孔模板的衬底制备方法，其特征在于，步骤(3)所述在氢气气氛中对镀钛基板在600-680℃保温预烘烤3-10min，具体为：

在H₂流量450-500sccm的气氛中将镀钛基板升温至600-680℃，保温烘烤3-10min。

9.根据权利要求6所述的用于制备多孔模板的衬底制备方法，其特征在于，步骤(4)所述通入NH₃和H₂混合气体，具体为：

按NH₃：H₂流量比为100～300通入NH₃和H₂混合气体。

10.多孔模板的制备方法，其特征在于，在完成权利要求6～9任一项所述的制备方法中的步骤(1)～(4)之后，在金属有机物化学气相沉积生长设备中进行III族氮化物一维纳米结构生长。