[发明专利]具有微结构的器件及其制作方法

说明书

本申请提供了一种具有微结构的器件及其制作方法。该制作方法包括：步骤S1，在基底上设置气溶胶态、悬浮的液滴态和/或气态的光固化树脂，形成光固化树脂层；步骤S2，按照预定图案对光固化树脂进行固化；步骤S3，去除未固化的光固化树脂，固化的光固化树脂形成微结构。该制作方法中，由于未固化的光固化树脂为气态、悬浮的液滴态和/或气溶胶态，所以，无需进行刻蚀就能去除，过程简单，且避免了采用刻蚀法产生对环境有害的污水的问题，且去除的未固化的气态、悬浮的液滴态和/或气溶胶态的光固化树脂可以回收利用，产品利用率比较高。

技术领域

本申请涉及材料领域，具体而言，涉及一种具有微结构的器件及其制作方法。

背景技术

现有技术中，通常采用刻蚀法制作微结构，该方法使用的溶剂等材料对环境不友好，且难以控制刻蚀精度。

发明内容

本申请的主要目的在于提供一种具有微结构的器件及其制作方法，以解决现有技术中的微结构的制作需要刻蚀的问题。

为了实现上述目的，根据本申请的一个方面，提供了一种具有微结构的器件的制作方法，该制作方法包括：步骤S1，在基底上设置气溶胶态、悬浮的液滴态和/或气态的光固化树脂，形成光固化树脂层；步骤S2，按照预定图案对上述光固化树脂进行固化；步骤S3，去除未固化的上述光固化树脂，固化的上述光固化树脂形成微结构。

进一步地，上述制作方法还包括：步骤S4，重复上述步骤S1至上述步骤S3，沿远离上述基底的方向在上述基底上依次形成多个叠置上述微结构。

进一步地，上述步骤S1中，采用雾化方式在上述基底上设置上述光固化树脂。

进一步地，上述步骤S2包括：将掩膜版设置在上述光固化树脂层的远离上述基底的一侧，上述掩膜版具有预定图案；采用UV光从上述掩膜版的远离上述光固化树脂层的一侧对上述光固化树脂层进行固化。

进一步地，上述掩膜版具有交替设置的遮光部与透光部。

进一步地，上述步骤S2中，采用单点激光固化的方式实施上述固化。

进一步地，上述步骤S3中，采用惰性气体吹扫法去除未固化的上述光固化树脂。

进一步地，上述制作方法在真空环境下进行。

进一步地，上述光固化树脂层的厚度在0.001～100μm之间，优选上述微结构的线宽在0.001～1000μm之间。

根据本申请的另一方面，提供了一种具有微结构的器件，该器件采用任一种上述的具有微结构的器件的制作方法制作得到。

应用本申请的技术方案，该制作方法中，通过在基底上设置气态、悬浮的液滴态和/或气溶胶态光固化树脂，然后按照预定的图案对光固化树脂进行固化，即光固化树脂层中的有些区域发生固化，有些区域未发生固化；最后，去除未发生固化的气态、悬浮的液滴态和/或气溶胶态的光固化树脂，剩余的发生固化的光固化树脂形成了微结构。该制作方法中，由于未固化的光固化树脂为气态、悬浮的液滴态和/或气溶胶态，所以，无需进行刻蚀就能去除，过程简单，且避免了采用刻蚀法产生对环境有害的污水的问题，且去除的未固化的气态、悬浮的液滴态和/或气溶胶态的光固化树脂可以回收利用，产品利用率比较高。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本申请的进一步理解，本申请的示意性实施例及其说明用于解释本申请，并不构成对本申请的不当限定。在附图中：

图1至图3示出了本申请的一种具有微结构的器件的制作过程的结构示意图；以及

图4与图5示出了本申请的另一种具有微结构的器件的制作过程的部分结构示意图。

其中，上述附图包括以下附图标记：