[发明专利]一种三原子层高质量石墨烯材料的亚临界反应制备方法有效

专利信息
申请号: 201810411874.4 申请日: 2018-04-24
公开(公告)号: CN108314026B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 苗中正;曹志轩 申请(专利权)人: 盐城师范学院
主分类号: C01B32/19 分类号: C01B32/19
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 224000 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 原子 层高 质量 石墨 材料 临界 反应 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种三原子层高质量石墨烯的亚临界制备方法,包括如下步骤:

(1)将溴化碘与石墨混合加热制备三阶石墨插层化合物;

(2)使三阶石墨插层化合物在亚临界水中进行反应,溶剂水作为反应物与溴化碘发生反应,在亚临界温度下提升了化学反应速率,并在密闭空间内增加了额外的物理剥离作用,从而高效制备三原子层高质量石墨烯。

2.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的溴化碘作为三阶石墨插层化合物的插层剂。

3.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中的石墨为10~150目膨胀石墨、高定向热解石墨、鳞片石墨、微晶石墨或者混合物。

4.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(1)中所述溴化碘与石墨混合加热的温度为100℃。

5.根据权利要求1所述的制备方法,其特征在于,步骤(2)中所述亚临界水温度在100~240℃之间,压力为22.1MPa。

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