[发明专利]一种全自动硅片清洗装置

权利要求书

1.一种全自动硅片清洗装置，包括机体（4），其特征在于，所述机体（4）的一侧设有进料口（2），所述进料口（2）处设有进料机构，所述机体（4）的另一侧设有出料口（14），所述出料口（14）处设有出料机构，所述机体（4）内设有清洗机构，所述清洗机构包括依次设置在机体（4）内底部的第一超声清洗槽（16）、第二超声清洗槽（17）、第一超声碱洗槽（18）、第二超声碱洗槽（19）、第一超声漂洗槽（20）、第二超声漂洗槽（21）、酸洗槽（22）、第三超声漂洗槽（23）和第四超声漂洗槽（24），所述第一超声清洗槽（16）靠近进料口（2），所述清洗机构的两侧均设有两个滚动机构，所述滚动机构包括两个固定板（31），所述固定板（31）之间活动连接有两个第二滚轴（30），所述滚动机构之间设有移动板（10），所述移动板（10）的两端分别位于第二滚轴（30）之间，所述机体（4）的内壁上设有第二伸缩杆（25），所述第二伸缩杆（25）的输出轴与移动板（10）的一端固定连接，所述滚动机构之间移动板（10）的上方设有多个第一伸缩杆（9），所述第一伸缩杆（9）的上方连接有安装板（8），所述第一超声清洗槽（16）、第二超声清洗槽（17）、第一超声碱洗槽（18）、第二超声碱洗槽（19）、第一超声漂洗槽（20）、第二超声漂洗槽（21）、酸洗槽（22）、第三超声漂洗槽（23）和第四超声漂洗槽（24）内均设有硅片放置架（32），所述硅片放置架（32）的两侧均设有连接板（5），所述连接板（5）位于安装板（8）的上方。

2.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述进料机构包括设置在机体（4）内的第一支架（3），并且第一支架（3）位于第一超声清洗槽（16）的一侧，所述第一支架（3）的另一侧通过进料口（2）延伸出去，所述第一支架（3）的上方活动连接多个第一滚轴（27），所述第一支架（3）靠近第一超声清洗槽（16）的一侧设有限位块（28）。

3.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述出料机构包括设置在机体（4）内的第二支架（15），所述第二支架（15）位于第四超声漂洗槽（24）的一侧，所述第二支架（15）的一端通过出料口（14）延伸出去，所述第二支架（15）的上方活动连接两个第三滚轴（36），所述第三滚轴（36）之间设有传送带（33），所述机体（4）的一侧设有电机（26），所述电机（26）的输出轴与第三滚轴（36）的一端均设有皮带轮（35），所述皮带轮（35）通过皮带（34）连接，所述传送带（33）的上方设有烘干机构。

4.根据权利要求3所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述烘干机构包括设置在机体（4）上方的热风风机（12），所述机体（4）内的顶部固定连接有管体（13），并且管体（13）位于传送带（33）的上方，所述管体（13）的下方设有多个喷头（37），所述热风风机（12）的出风口与管体（13）连通。

5.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述连接板（5）的下方设有多个第一固定齿（6），所述安装板（8）的上方设有多个第二固定齿（7），并且第一固定齿（6）分别位于第二固定齿（7）之间。

6.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述进料口（2）和出料口（14）处机体（4）上均活动连接有活动板（1）。

7.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述滚动机构之间移动板（10）的底部设有多个滚轮（11），所述滚轮（11）与机体（4）内的底部接触。

8.根据权利要求1所述的一种全自动硅片清洗装置，其特征在于，所述机体（4）的底部等距设有多个支脚（29），并且支脚（29）的底部设有防滑纹。