[发明专利]一种1年期韭菜的栽培方法

说明书

本发明涉及一种1年期韭菜的栽培方法。该方法采用大田开沟直播种植，播种行距为20～25cm，播种开沟深度大于播种后种子覆土厚度，每667m²播种子量为1.7～2kg；播种后浇1次透水，然后间隔4～5天浇1次小水，直至出苗生长。该栽培方法采用深播种浅覆土的方法进行大田直播种植，省去了传统种植方式的育苗、定植、缓苗工序，减少了用工，提高了种植效率；通过控制栽培参数进行合理密植使韭菜商品性状好，第1年收割产量高，该栽培方法最大程度利用第1年韭菜生长发育快，长势强，产量高，病虫害少，商品性状优等优势，打破了传统的多年期韭菜种植理念，实现了韭菜产量和质量的并重。

技术领域

本发明属于韭菜的种植领域，具体涉及一种1年期韭菜的栽培方法。

背景技术

韭菜是多年生蔬菜，因其营养价值丰富而深受人们喜爱。因韭菜生长具有分蘖跳根的特性(鳞茎盘和根系会上移至地表)，目前韭菜的种植多采用育苗移栽种植法，种子经育苗、苗田管理、成苗后再定植大田。如申请公布号为CN106034639A的专利公开了一种韭菜的种植方法，包括将韭菜种子浸泡、撒播培养成韭菜苗的育苗步骤，以及将韭菜苗移栽至大田的移栽步骤。

黄淮地区的韭菜大田栽培多采用上述传统种植方式，这种种植方式的特点是先育苗再定植，定植行距30～40cm，收获周期3～5年。这种种植方式虽然收获年限长、韭菜收获总量大，但生产周期长造成病虫害严重，导致用药多，产品难以达到绿色蔬菜标准；此外育苗定植方式投工较多，在定植当年密度小、产量低，后期因分蘖跳根导致密度过大、养分不足，韭菜的商品性状受到影响。目前，多年期韭菜的产量和质量矛盾日益突出，传统种植方式已不符合科学种植、绿色种植的种植理念。

发明内容

本发明的目的在于提供一种1年期韭菜的栽培方法，从而解决现有多年期韭菜的产量和质量无法兼顾的问题。

为实现上述目的，本发明所采用的技术方案是：

一种1年期韭菜的栽培方法，包括以下步骤：

1)采用大田开沟直播种植，播种行距为20～25cm，播种开沟深度大于播种后种子覆土厚度，每667m²播种子为1.7～2kg；

2)播种后浇1次透水，然后间隔4～5天浇1次小水，直至出苗生长。

本发明提供的1年期韭菜的栽培方法，采用深播种浅覆土的方法进行大田直播种植，省去了传统种植方式的育苗、定植、缓苗工序，减少了用工，提高了种植效率；通过控制栽培参数进行合理密植，既可避免病虫害滋生，减少施药次数，又提高了当年收割产量；该栽培方法最大程度利用韭菜第1年生长发育快，长势强、产量高，病虫害少，商品性状优等优势，打破了传统的多年期韭菜种植理念，实现了韭菜产量和质量的并重。该栽培方法预防和控制了病虫源残留和传播，避免或减少药物防治，增施有机肥使用量控制化肥使用量，满足了韭菜健壮生长，韭菜生产达到绿色蔬菜的种植标准。

播种开沟深度为3～5cm，播种后种子覆土厚度为1.5～2cm。采用该播种参数进行播种，既可保证韭菜在种植年限内的营养吸收，又可有效促进种子出苗生长。

传统多年期韭菜栽培时，为了减少韭菜因分蘖与跳根的特性影响其产量和商品性状，并便于多年期韭菜栽培的田间管理，种植行距设为28～35cm，播种开沟深度为7～8cm，覆土厚度为1.5～2.5cm，每667m²播种量为1.4～1.8kg。与多年期韭菜栽培相比，1年期韭菜的栽培要点在于种植行距小，播种开沟深度浅及同等条件下播种量大，这样可以充分利用1年期韭菜的生长特点，既满足其根株营养吸收与健壮生长的要求，又达到了产量高、商品性状好的效果。