[发明专利]一种超平滑白釉及制备方法

说明书

本发明涉及陶瓷领域，尤其涉及一种超平滑白釉及制备方法，由以下质量份数的原料组成：锂辉石1‑2份、钾长石3‑11份、石英8‑15份、氧化铝2.5‑6份、方解石2‑7份、白云石1‑3份、硅灰石1‑3份、超细硅酸锆7‑9份、高温熔块50‑68份、高岭土2份，在不提高企业生产成本的同时，采用一次施釉及一次烧成工艺，通过引入常规的原料合理的调整釉浆配方，在保证釉面具有足够强度的同时最终实现釉面的超平滑技术，解决釉面吸污。

技术领域

本发明涉及陶瓷领域，尤其涉及一种超平滑白釉及制备方法。

背景技术

目前的抗污易清洁技术在釉面上的应用主要分为三类：一种是引入纳米材料通过在低温(500-600℃)进行烘烤，形成一种保护膜，防止釉面的吸污，但此种工艺采用的是低温烘烤的方式，会导致保护膜耐酸耐碱性及硬度的降低，从而严重影响釉面的抗污能力；

第二种采用的方式是采用“底釉+自洁釉”的方式，公开号为CN101870593A的发明专利公开了一种高硬度自洁釉及制备方法，通过引入适量高温熔块及超细硅酸锆，调整釉浆配方及控制釉浆粒度(≤10微米)的釉浆颗粒占总体积的70％-80％，通过这些措施来实现超平滑釉面，此发明采用的施釉工艺为先喷底釉，釉层厚度为(烧成前0.7mm-1.0mm)，然后再施一层自洁釉，自洁釉釉层厚度为(烧成前0.1mm-0.2mm)，这种结合方式存在的问题是生产工序复杂，又加之自洁釉釉层厚度薄，极不容易控制，如果自洁釉釉层过厚时，在烧成时会导致自洁釉釉层整体的耐火度的急剧降低，从而会产生大量的针孔气泡，严重影响釉面的超平滑，如果自洁釉釉层厚度薄的话又达不到应有的超平滑效果，严重影响釉面的抗污及易清洁能力。公开号为CN104892032A的发明专利公开了一种持久易清洁面釉配方及其制备卫生洁具的方法，实际上的施釉方式与公开号为CN101870593A的发明专利是一致的只不过就是面釉的化学组成不一样，同时面釉的厚度为0.4mm-0.6mm有所增加，同样由于面釉的接触面为底釉而不是坯体，并且面釉釉层的加厚这样会导致整体的耐火度急剧的降低，从而会产生大量的针孔气泡，严重影响釉面的超平滑；

第三种是采用一次施釉工艺，公开号为CN106517793A的发明专利公开了一种新型超细自洁釉料及制备工艺，通过将传统陶瓷釉料进行研磨至中位粒径D50≤1微米，将传统陶瓷釉浆、超细釉浆，抗收缩剂及载银抗菌剂按不同的比例进行调整，从而实现釉面的抗污性，通过简单的粒度级配的控制(将传统釉浆研磨至中粒径D50≤1微米)，在本质上并没有显著的改善釉层的显微结构，所以釉面的超平滑也是有限的，同时加细釉浆至中粒径D50≤1微米，在生产过程中会消耗大量宝贵的电量能源，严重提升企业的生产成本。

公开号为CN101580342B的发明专利公开了一种自洁抗菌陶瓷釉及其制备方法与陶瓷产品，通过在釉浆配方中引入适量的Ti及Ag元素从而产生光催化效果，起到防止吸污的目的；公开号为CN1686919B的发明专利公开了一种超级亲水易洁功能陶瓷材料及其制备工艺，通过调整釉面的表面能来实现釉面的超级亲水从而实现釉面的抗污及易清洁的目的，以上两个专利并不是通过釉熔体的超平滑技术来来实现釉面的防污与易清洁技术的。

那么如何在不严重增加企业生产成本，并且易于操作、生产简便，釉面具有足够的硬度来抵抗在使用过程中的摩擦，刻划这些因素的前提下实现釉面的抗污易清洁的目的，是本领域技术人员亟待解决的问题。

发明内容

本发明所要解决的技术问题是克服现有技术中存在的不足，提供一种具有足够硬度的超平滑白釉及制备方法。

本发明是通过以下技术方案予以实现：

一种超平滑白釉，其特征在于，由以下质量份数的原料组成：锂辉石1-2份、钾长石3-11份、石英8-15份、氧化铝2.5-6份、方解石2-7份、白云石1-3份、硅灰石1-3份、超细硅酸锆7-9份、高温熔块50-68份、高岭土2份。