[发明专利]用于在电容耦接等离子体源下方对工件进行均匀照射的孔图案

权利要求书

1.一种气体分配组件，所述气体分配组件包括：

多个楔形注射器单元，所述多个楔形注射器单元形成具有内周缘和外周缘的圆形主体，所述注射器单元中的至少一个包括等离子体源组件，所述等离子体源组件包括：

楔形接地区隔板，所述楔形接地区隔板具有限定范围的外周缘和在所述范围内并且延伸穿过所述楔形接地区隔板的多个孔，所述多个孔包括第一组孔和第二组孔，所述第一组孔位于所述范围的内部部分上且所述第二组孔在所述第一组孔和所述楔形接地区隔板的外周缘之间，所述第一组孔具有第一直径且所述第二组孔具有第二直径，所述第二直径小于所述第一直径，所述第二组孔以楔形图案布置以符合所述楔形接地区隔板；

楔形射频热电极，所述楔形射频热电极在模块化楔形外壳内，所述楔形射频热电极具有正面和背面，所述楔形射频热电极的所述正面与所述楔形接地区隔板间隔以限定间隙；

末端电介质，所述末端电介质与所述楔形射频热电极的第一端和第二端中的每一者接触并且在所述楔形射频热电极和侧壁之间；以及

滑动接地，所述滑动接地定位在所述楔形射频热电极的所述第一端和所述第二端的一者或多者处，与所述末端电介质相对，所述滑动接地被用所述末端电介质隔离，以避免与所述楔形射频热电极的直接接触。

2.如权利要求1所述的气体分配组件，其特征在于，所述第一直径在2mm至10mm的范围内。

3.如权利要求2所述的气体分配组件，其特征在于，所述第二直径在1mm至4mm的范围内。

4.如权利要求1所述的气体分配组件，其特征在于，所述区隔板还包括：第三组孔，所述第三组孔在所述第二组孔和所述楔形接地区隔板的所述外周缘之间，所述第三组孔具有不同于所述第一直径和所述第二直径的第三直径，所述第三组孔以楔形图案布置以符合所述楔形接地区隔板的形状。

5.如据权利要求4所述的气体分配组件，其特征在于，所述第一直径是4mm，而所述第二直径是2mm，并且所述第三直径是1.3mm。

6.如权利要求4所述的气体分配组件，其特征在于，所述第三直径小于所述第二直径。

7.如权利要求4所述的气体分配组件，其特征在于，所述第三组孔与所述外周缘间隔小于15mm的距离。

8.如权利要求4所述的气体分配组件，其特征在于，所述第三直径在0.5mm至3mm的范围内。

9.如权利要求4所述的气体分配组件，其特征在于，所述第一直径在2mm至10mm的范围内，所述第二直径在1mm至6mm的范围内，以及所述第三直径在0.5mm至3mm的范围内，并且所述第二直径大于所述第三直径。

10.如权利要求4所述的气体分配组件，其特征在于，所述第三组孔中的每一孔大体上均匀地与邻近孔间隔，所述第三组孔中的每一孔具有所述第三直径。

11.如权利要求1所述的气体分配组件，所述等离子体源组件还包括：具有不同直径的孔，所述具有不同直径的孔定位在所述范围内，以便所述不同直径从所述范围的所述内部部分到所述范围的外部部分逐渐增大。