[发明专利]一种检测装置的制作方法在审
| 申请号： | 201810425951.1 | 申请日： | 2018-05-04 |
| 公开（公告）号： | CN108645911A | 公开（公告）日： | 2018-10-12 |
| 发明（设计）人： | 舒琳;吴卫东;王雪敏;阎大伟;罗跃川;王进 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01N29/04 | 分类号： | G01N29/04 |
| 代理公司： | 北京超凡志成知识产权代理事务所(普通合伙) 11371 | 代理人： | 吴开磊 |
| 地址： | 621000 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 声表面波传感器 测试金属 结构部件 阻挡层 声表面波 制作 种检测 微型电子器件 测试灵敏度 金属结构件 测试 品质因数 谐振 传感器 粘结剂 | ||
1.一种检测装置的制作方法，其特征在于，包括：
一待测试金属结构部件，在所述待测试金属结构部件上设置声阻挡层；
在所述声阻挡层上设置声表面波传感器，其中，在对所述待测试金属结构部件进行测试时，所述声阻挡层使所述声表面波传感器产生的声表面波作用于所述待测试金属结构部件的表面。
2.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述声阻挡层包括：高声阻抗材料层和低声阻抗材料层，在所述待测试金属结构部件上设置声阻挡层，包括：
在所述待测试金属结构部件上由下至上交替设置所述高声阻抗材料层和所述低声阻抗材料层。
3.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述声阻挡层包括：高声阻抗材料层和低声阻抗材料层，在所述待测试金属结构部件上设置声阻挡层，包括：
在所述待测试金属结构部件上由下至上交替设置所述低声阻抗材料层和所述高声阻抗材料层。
4.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述高声阻抗材料层为钛层、钨层、金层或铂层。
5.根据权利要求2或3所述的方法，其特征在于，所述低声阻抗材料层为石英层、氧化硅层或三氧化二铝层。
6.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，所述声表面波传感器包括：压电薄膜层和金属电极结构，在所述声阻挡层上设置声表面波传感器，包括：
在所述声阻挡层上设置所述压电薄膜层；
在所述压电薄膜层上制作所述金属电极结构。
7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述压电薄膜层为氧化锌薄膜层、氮化铝薄膜层、氮化镓薄膜层、铌酸锂薄膜层、钽酸锂薄膜层或锆钛铅酸薄膜层。
8.根据权利要求1所述的方法，其特征在于，在所述待测试金属结构部件上设置声阻挡层之前，还包括：
对所述待测试金属结构部件的测试表面进行抛光处理，使所述待测试金属结构部件的测试表面光滑。
9.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，还包括：
在所述待测试金属结构部件与所述声阻挡层之间设置缓冲薄膜层。
10.根据权利要求9所述的方法，其特征在于，所述缓冲薄膜层为氧化物或氮化物薄膜层。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国工程物理研究院激光聚变研究中心，未经中国工程物理研究院激光聚变研究中心许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810425951.1/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
