[发明专利]一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统

权利要求书

1.一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，包括光源（1），所述光源（1）发射光线一侧依次设置有第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）和图像获取装置（8），其特征在于：所述第一准直透镜（2）和第一成像镜（4）之间设置有第一偏振调制模块（3），所述第二准直透镜（5）和第二成像镜（7）之间设置有第二偏振调制模块（6），所述光源（1）、第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）、图像获取装置（8）的中心点与所述第一偏振调制模块（3）、第二偏振调制模块（6）的中心点均位于同一直线上；

所述第一准直透镜（2）与所述光源（1）的距离为第一准直透镜（2）的焦距f，所述第一成像镜（4）与所述第二准直透镜（5）的距离为第二准直透镜（5）焦距f的两倍2f，所述第二成像镜（7）与所述图像获取装置（8）的距离为第二成像镜（7）的焦距f。

2.根据权利要求1所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一偏振调制模块（3）包括两块相同且重叠设置的改进型萨瓦偏光镜Ⅰ，分别为第一改进型萨瓦偏光镜Ⅰ（11a）和第二改进型萨瓦偏光镜Ⅰ（11b），所述第一改进型萨瓦偏光镜Ⅰ（11a）的出光面和第二改进型萨瓦偏光镜Ⅰ（11b）的进光面之间设置有第一半波片（12），所述第一改进型萨瓦偏光镜Ⅰ（11a）的进光面还设置有起偏器（10）。

3.根据权利要求1所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第二偏振调制模块（6）包括两块相同且重叠设置的改进型萨瓦偏光镜Ⅱ，分别为第一改进型萨瓦偏光镜Ⅱ（14a）和第二改进型萨瓦偏光镜Ⅱ（14b），所述第一改进型萨瓦偏光镜Ⅱ（14a）的出光面和第二改进型萨瓦偏光镜Ⅱ（14b）的进光面之间设置有第一半坡片（12），所述第二改进型萨瓦偏光镜Ⅱ（14b）的出光面还设置有检偏器（15）。

4.根据权利要求2所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述改进型萨瓦偏光镜Ⅰ包括重叠布置的第一萨瓦板（16）和第二萨瓦板（17），所述第一萨瓦板（16）和第二萨瓦板（17）之间设置有第二半波片（13），所述第一萨瓦板（16）和第二萨瓦板（17）厚度相等，所述第一萨瓦板（16）光轴和第二萨瓦板（17）光轴位于同一平面内，以第二半波片（13）为对称轴，呈对轴分布且两者夹角为90°。

5.根据权利要求3所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述改进型萨瓦偏光镜Ⅱ包括重叠布置的第三萨瓦板（18）和第四萨瓦板（19），所述第三萨瓦板（18）和第四萨瓦板（19）之间设置有第三半波片（20），所述第三萨瓦板（18）和第四萨瓦板（19）厚度相等且为第一萨瓦板（16）厚度的2倍，所述第三萨瓦板（18）光轴和第四萨瓦板（19）光轴位于同一平面内，以第三半波片（20）为对称轴，呈对轴分布且两者夹角为90°。

6.根据权利要求2或3所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一半坡片（12）的偏振方向角为22.5°。

7.根据权利要求4所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第二半波片（13）的偏振方向角为45°。

8.根据权利要求5所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第三半坡片（20）的偏振方向角为45°。

9.根据权利要求2或3所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述起偏器（10）和检偏器（15）的透振方向角为45°。

10.根据权利要求1所述的一种双折射晶体快拍穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）均为焦距相同的凸透镜。