[发明专利]指纹成像模组及其形成方法、指纹成像模组母板、电子设备

权利要求书

1.一种指纹成像模组，其特征在于，包括：

基底；

发光结构层，所述发光结构层位于所述基底的一个表面上；

像素阵列，所述像素阵列位于所述发光结构层上；

所述发光结构层所产生的光线在透射所述像素阵列后在感测面上形成携带有指纹信息的感测光，所述像素阵列采集所述感测面以获得指纹图像；

所述指纹成像模组还包括：钝化层，所述钝化层位于所述发光结构层和所述像素阵列之间，且覆盖所述发光结构层，所述像素阵列形成于所述钝化层表面，以使所述钝化层与所述发光结构层之间、所述像素阵列与所述钝化层之间没有明显的界限。

2.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述钝化层的透光率在50％以上。

3.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述钝化层的厚度在到4μm范围内。

4.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述钝化层为氧化硅层、氮化硅层和防护涂层中的一种或多种。

5.如权利要求1所述的指纹成像模组，其特征在于，所述发光结构层包括：多个管芯，在平行所述感测面的平面内，所述多个管芯均匀分布。

6.如权利要求5所述的指纹成像模组，其特征在于，所述管芯的材料为无机材料。

7.如权利要求5所述的指纹成像模组，其特征在于，所述像素阵列包括多个像素单元，所述像素单元呈阵列排布以形成所述像素阵列；

所述像素单元与所述管芯一一对应且位于所述管芯相对应的位置；

或者，多个所述像素单元与一个所述管芯相对应。

8.如权利要求7所述的指纹成像模组，其特征在于，所述管芯与所述像素单元一一对应且位于所述所述像素单元相对应的位置；

所述像素单元包括透光区域；

所述管芯与所述像素单元的透光区域位置对应。

9.如权利要求8所述的指纹成像模组，其特征在于，所述管芯在所述基底表面的投影与所述像素单元的透光区域在所述基底表面的投影具有重叠。

10.一种指纹成像模组母板，其特征在于，包括：多个指纹成像模组，所述指纹成像模组如权利要求1至权利要求9任意一项所述。

11.一种电子设备，其特征在于，包括：指纹成像模组，所述指纹成像模组如权利要求1至权利要求9任意一项所述。

12.一种指纹成像模组的形成方法，其特征在于，包括：

提供基底；

在所述基底的一个表面上形成发光结构层；

在所述发光结构层上形成像素阵列；

形成发光结构层之后，形成像素阵列之前，还包括：形成覆盖所述发光结构层的钝化层，所述钝化层位于所述发光结构层和所述像素阵列之间，所述像素阵列形成于所述钝化层表面，以使所述钝化层与所述发光结构层之间、所述像素阵列与所述钝化层之间没有明显的界限。

13.如权利要求12所述的形成方法，其特征在于，所述钝化层的透光率在50％以上。

14.如权利要求12所述的形成方法，其特征在于，所述钝化层的厚度在到4μm范围内。

15.如权利要求12所述的形成方法，其特征在于，所述钝化层为氧化硅层、氮化硅层和防护涂层中的一种或多种。

16.如权利要求12所述的形成方法，其特征在于，形成所述发光结构层的过程包括：在所述基底的一个表面上形成多个管芯，平行感测面的平面内，所述多个管芯均匀分布。