[发明专利]一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统

权利要求书

1.一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，包括由前到后，依次设置的第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）和图像获取装置（8），其特征在于：所述第一准直透镜（2）入射光一侧设置有扫描光源（1），所述第一准直透镜（2）和所述第一成像镜（4）之间设置有第一偏振调制模块（3），所述第二准直透镜（5）和所述第二成像镜（7）之间设置有第二偏振调制模块（6），所述扫描光源（1）、第一准直透镜（2）、第一成像镜（4）、第二准直透镜（5）、第二成像镜（7）、图像获取装置（8）的中心点与所述第一偏振调制模块（3）、第二偏振调制模块（6）的中心点均位于同一直线L上；

所述第一准直透镜（2）与所述扫描光源（1）的距离为第一准直透镜（2）的焦距f₁，所述第一成像镜（4）与所述第二准直透镜（5）的距离为第二准直透镜（5）焦距f₂的两倍2f₂，所述第二成像镜（7）与所述图像获取装置（8）的距离为第二成像镜（7）的焦距f₃。

2.根据权利要求1所述的一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一偏振调制模块（3）包括第一萨瓦偏光镜（11a）和第二萨瓦偏光镜（11b），所述第一萨瓦偏光镜（11a）的出光面和第二萨瓦偏光镜（11b）的进光面之间设置有第一半波片（12a），所述第一萨瓦偏光镜（11a）的进光面还设置有起偏器（10）。

3.根据权利要求1所述的一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第二偏振调制模块（6）包括第三萨瓦偏光镜（14a）和第四萨瓦偏光镜（14b），所述第三萨瓦偏光镜（14a）的出光面和第四萨瓦偏光镜（14b）的进光面之间设置有第二半坡片（12b），所述第四萨瓦偏光镜（14b）的出光面还设置有检偏器（15）。

4.根据权利要求2所述的一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第一萨瓦偏光镜（11a）包括重叠设置的第一萨瓦板（13）和第二萨瓦板（18a），所述萨瓦板光轴位置由纵轴X轴、横轴Y轴以及系统光轴Z轴来确定，所述系统光轴Z轴与所述直线L平行且光线传播方向为Z轴正向，所述纵轴X轴与所述直线L竖直垂直且向上为X轴正向，所述横轴Y轴与所述直线L水平垂直且光线传播方向右侧为Y轴正向，所述第一萨瓦板（13）光轴在XZ平面且与X轴正向、系统光轴Z轴正向成45°，所述第二萨瓦板（18a）光轴在YZ平面且与系统光轴Z轴正向、Y轴负向成45°；

所述第二萨瓦偏光镜（11b）包括重叠设置的第三萨瓦板（16）和第四萨瓦板（18b），所述第三萨瓦板（16）光轴在XZ平面且与X轴正向、系统光轴Z轴负向成45°，所述第四萨瓦板（18b）光轴与所述第二萨瓦板（18a）光轴相同，所述第一萨瓦板（13）、第二萨瓦板（18a）、第三萨瓦板（16）、第四萨瓦板（18b）厚度相同。

5.根据权利要求3所述的一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第三萨瓦偏光镜（14a）包括重叠设置的第五萨瓦板（20）和第六萨瓦板（19a），所述萨瓦板光轴位置由纵轴X轴、横轴Y轴以及系统光轴Z轴来确定，所述系统光轴Z轴与所述直线L平行且光线传播方向为Z轴正向，所述纵轴X轴与所述直线L竖直垂直且向上为X轴正向，所述横轴Y轴与所述直线L水平垂直且光线传播方向右侧为Y轴正向，所述第五萨瓦板（20）光轴在XZ平面且与X轴正向、系统光轴Z轴正向成45°，所述第六萨瓦板（19a）光轴在YZ平面且与系统光轴Z轴正向、Y轴负向成45°；

所述第四萨瓦偏光镜（14b）包括重叠设置的第七萨瓦板（21）和第八萨瓦板（19b），所述第七萨瓦板（21）在XZ平面且与X轴正向、系统光轴Z轴负向成45°，所述第八萨瓦板（19b）光轴和所述第六萨瓦板（19a）光轴相同，所述第五萨瓦板（20）、第六萨瓦板（19a）、第七萨瓦板（21）、第八萨瓦板（19b）厚度相同。

6.根据权利要求4或5所述的一种超光谱穆勒矩阵成像测偏系统，其特征在于：所述第五萨瓦板（20）厚度为第一萨瓦板（13）厚度的两倍。