[发明专利]一种二维材料正入射菲涅尔光学表征方法有效

专利信息
申请号: 201810437661.9 申请日: 2018-05-09
公开(公告)号: CN108646321B 公开(公告)日: 2019-10-15
发明(设计)人: 王孝东;陈波 申请(专利权)人: 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所
主分类号: G02B1/00 分类号: G02B1/00;G02B27/00
代理公司: 深圳市科进知识产权代理事务所(普通合伙) 44316 代理人: 赵勍毅
地址: 130033 吉林省长春*** 国省代码: 吉林;22
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 二维材料 正入射 光学表征 菲涅尔 矩阵 光电领域 光学薄膜 光学导纳 计算公式 推导过程 传统的 反射率 透过率 推导 基底 传导 引入 支撑 吸收 应用
【权利要求书】:

1.一种二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,所述方法包括:

获取二维材料的位相厚度δ、二维材料光学导纳y、归一化的电场强度B和磁场强度C;

利用所述位相厚度δ、所述二维材料光学导纳y、所述归一化的电场强度B和磁场强度C之间的对应关系确定所述二维材料的吸收;

其中:

所述获取二维材料的位相厚度δ、二维材料光学导纳y、归一化的电场强度B和磁场强度C,包括:

利用第二关系确定归一化的电场强度B和磁场强度C,所述第二关系为:

利用第三关系确定位相厚度δ,所述第三关系为:

δ=2πNd/λ;

利用第四关系确定二维材料光学导纳y,所述第四关系为:

y=H/E=NY;

利用所述位相厚度δ对所述第二关系进行近似处理得到第五关系,所述第五关系为:

所述利用位相厚度δ、二维材料光学导纳y、归一化的电场强度B和磁场强度C之间的对应关系确定二维材料的吸收,包括:

利用所述电场强度B、磁场强度C、所述位相厚度δ、所述二维材料光学导纳y以及第一关系确定用于表征二维材料吸收A的第六关系,所述第一关系为:

所述第六关系为:

其中,Y为自由空间光学导纳,y0为自由空气光学导纳,y为所述二维材料光学导纳,ym为基底光学导纳,d是二维材料厚度,λ是波长,H表示磁场强度,Eb表示出射界面电场强度,设N0=1,N=n-ik,Ns=ns-iks,n表示二维材料折射率,k表示二维材料消光系数,ns表示基底折射率,ks表示基底消光系数,Ea为入射电场强度,Ha为入射磁场强度,Eb为出射电场强度,Hb为出射磁场强度,B为归一化的电场强度,C为归一化的磁场强度,i表示复数虚部。

2.根据权利要求1所述的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,利用4πk/λ是吸收系数对用于表征二维材料吸收A的所述第六关系简化为第八关系,所述第八关系为:

A=adn;

其中,α表示吸收系数。

3.根据权利要求1所述的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,所述方法还包括:

利用第九关系确定二维材料透射率,所述第九关系为:

其中,ys表示基底光学导纳。

4.根据权利要求3所述的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,所述方法还包括:

利用第十关系确定所述二维材料反射率,所述第十关系为:

5.根据权利要求4所述的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,所述方法还包括:

对所述第九关系进行简化得到用于表征无支撑二维材料透过率T的第十一关系,所述第十一关系为:

6.根据权利要求4所述的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,所述方法还包括:

对所述第十关系进行简化得到用于表征无支撑二维材料反射率R的第十二关系,所述第十二关系为:

7.根据权利要求1所述的二维材料正入射菲涅尔光学表征方法,其特征在于,所述方法还包括:

当N0=1,利用所述电场强度B、磁场强度C、所述位相厚度δ、所述二维材料光学导纳y以及第一关系确定用于有基底二维材料吸收A的第十三关系,所述十三关系为:

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院长春光学精密机械与物理研究所,未经中国科学院长春光学精密机械与物理研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810437661.9/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top