[发明专利]显示基板的制备方法及液晶设备的制备方法

权利要求书

1.一种液晶天线基板的制备方法，其特征在于，包括：

在基底上依次沉积金属材料层和光刻胶材料层，并通过构图工艺形成包括金属图案和位于所述金属图案上方的光刻胶图案；

在任意两相邻的所述金属图案之间形成遮光材料；其中，所述遮光材料与所述光刻胶图案的亲疏液性相反；

对所述遮光材料进行固化，形成遮光图案，以使所述遮光图案的厚度与所述金属图案的厚度相同，并去除所述光刻胶图案；光刻胶为能够在光照条件下亲液性和疏液性相互转换的材料。

2.根据权利要求1所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，所述对所述遮光材料进行固化，包括：采用光照的方式对所述遮光材料进行固化。

3.根据权利要求1所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，所述遮光材料包括分子主链上含有疏水基团的炭黑材料。

4.根据权利要求3所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，所述疏水基团包括：烃基或者酯基。

5.根据权利要求1所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，在所述对所述遮光材料进行固化，形成遮光图案，以使遮光图案的厚度与所述金属图案的厚度相同，并去除所述光刻胶图案的步骤之后，还包括：

形成配向层的步骤。

6.根据权利要求1所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，所述液晶天线基板用作液晶天线的上基板，所述金属图案为接地电极。

7.根据权利要求6所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，在所述基底上依次沉积金属材料层和光刻胶材料层，并通过构图工艺形成金属图案和位于所述金属图案上方的光刻胶图案的步骤之前，还包括：

在基底上背离待形成金属图案的侧面上，通过构图工艺形成包括天线辐射贴片层图形；

在所述天线辐射贴片层背离所述基底的一侧形成保护层。

8.根据权利要求1所述的液晶天线基板的制备方法，其特征在于，所述液晶天线基板用作液晶天线的下基板，所述金属图案包括微带线。

9.一种液晶设备的制备方法，其特征在于，包括权利要求1-8中任一项所述的液晶天线基板的制备方法。

10.根据权利要求9所述液晶设备的制备方法，其特征在于，所述液晶设备为液晶天线，所述液晶天线包括上基板和下基板；所述液晶天线基板为所述液晶天线的上基板；所述制备方法还包括：

将所述液晶天线基板与所述下基板对盒，并在盒内填充液晶的步骤；或者，

液晶天线基板为所述液晶天线的下基板；所述制备方法还包括：

将所述液晶天线基板与所述上基板对盒，并在盒内填充液晶的步骤。

11.根据权利要求10所述液晶设备的制备方法，其特征在于，所述在盒内填充液晶的方式包括ODF或者灌晶。