[发明专利]一种显示基板的制备方法、显示基板及显示装置在审
| 申请号： | 201810442598.8 | 申请日： | 2018-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN108628032A | 公开（公告）日： | 2018-10-09 |
| 发明（设计）人： | 姜瑞泽;徐敬义;石天雷;任艳伟;闫芳;李晓锦 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335 |
| 代理公司： | 北京润泽恒知识产权代理有限公司 11319 | 代理人： | 莎日娜 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 遮光层 显示基板 基板 封框胶 涂覆区域 显示装置 光照射 制备 附着力 黑色矩阵材料 黑色矩阵 正投影 变性 固化 背离 覆盖 申请 | ||
1.一种显示基板，其特征在于，所述显示基板包括：
基板，所述基板包括封框胶涂覆区域；
形成在所述基板上的黑色矩阵和第一遮光层；
以及形成在所述第一遮光层背离所述基板一侧的第二遮光层，其中，所述第一遮光层以及所述第二遮光层在所述基板上的正投影均覆盖所述封框胶涂覆区域。
2.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层的材料为金属。
3.根据权利要求2所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层的材料为钼或银。
4.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层的厚度大于或等于100埃，且小于或等于1000埃。
5.根据权利要求1所述的显示基板，其特征在于，所述第二遮光层在所述基板上的正投影呈环状，所述第二遮光层的宽度为大于或等于400微米，且小于或等于700微米。
6.根据权利要求1至5任一项所述的显示基板，其特征在于，所述显示基板还包括：
形成在所述基板和所述黑色矩阵上的色阻层；
以及保护层，所述保护层覆盖所述黑色矩阵、所述色阻层、所述第一遮光层和所述第二遮光层。
7.一种显示装置，其特征在于，所述显示装置包括相对设置的第一显示基板和第二显示基板，所述第一显示基板与所述第二显示基板之间通过封框胶封装；其中，所述第一显示基板为如权利要求1至6任一项所述的显示基板，所述封框胶位于所述第一显示基板的封框胶涂覆区域。
8.根据权利要求7所述的显示装置，其特征在于，所述第一显示基板为彩膜基板，所述第二显示基板为阵列基板。
9.一种显示基板的制备方法，其特征在于，所述制备方法包括：
提供基板，所述基板包括封框胶涂覆区域；
在所述基板上形成黑色矩阵和第一遮光层；
在所述第一遮光层背离所述基板一侧形成第二遮光层，其中，所述第一遮光层以及所述第二遮光层在所述基板上的正投影均覆盖所述封框胶涂覆区域。
10.根据权利要求9所述的制备方法，其特征在于，所述制备方法还包括：
在所述基板和所述黑色矩阵上形成色阻层；
形成保护层，所述保护层覆盖所述黑色矩阵、所述色阻层、所述第一遮光层和所述第二遮光层。
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