[发明专利]一种干切削刀具及其制备方法有效
申请号: | 201810443034.6 | 申请日: | 2018-05-10 |
公开(公告)号: | CN108624881B | 公开(公告)日: | 2019-03-15 |
发明(设计)人: | 刘杰;代慧;黄学飞;盛永华;周华 | 申请(专利权)人: | 广州番禺职业技术学院 |
主分类号: | C23C28/00 | 分类号: | C23C28/00;C23C16/34;C23C16/40;C23C16/36;C23C14/35;C23C14/14 |
代理公司: | 广州市华学知识产权代理有限公司 44245 | 代理人: | 陈燕娴 |
地址: | 511483 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 干切削刀具 预处理 刀具表面 复合涂层 软涂层 沉积 制备 化学气相沉积 刀具前刀面 干切削加工 纳米级凹槽 刀具涂层 多元复合 纳米凹槽 涂层刀具 反应室 抗氧化 耐高温 耐磨损 激光 加工 应用 | ||
1.一种干切削刀具,该刀具设置有软涂层的纳米级凹槽,刀具表面设置有复合涂层,其特征在于:该复合涂层从内到外依次包括TiN、Al2O3、TiCN、cBN,及MoS2-Ti,所述TiN涂层的厚度为5~10μm,所述Al2O3涂层的厚度为10~20μm,所述TiCN涂层的厚度为5~10μm,所述cBN涂层的厚度为5~15μm,所述MoS2-Ti涂层的厚度为10~15μm,所述TiN、Al2O3、TiCN及cBN涂层采用化学气相沉积制得,所述MoS2-Ti涂层采用物理气相沉积制得;
所述TiN涂层采用N2作为氮源反应气体,采用TiCl4作为钛源反应材料,采用H2作为载气和稀释气体;所述TiCN涂层采用N2作为氮源反应气体,采用TiCl4作为钛源反应材料,采用CH3CN作为碳源反应气体,采用H2作为载气和稀释气体;所述Al2O3涂层采用AlCl3作为铝源反应气体,采用CO2和H2O作为氧化气体,载气为H2,并增加催化气体PCl3;cBN涂层采用N2和NH3作为氮源反应气体,采用BF3作为硼源反应气体,采用H2作为载气和稀释气体;MoS2-Ti涂层采用物理气相沉积中的磁控溅射离子镀的方法,采用Ti靶和两个MoS2靶制得;
干切削刀具的前刀面设置有纳米级凹槽,所述凹槽的截面为三角形,三角形的第一边的方向沿着前刀面,第二边的方向垂直于前刀面,第三边的方向与前刀面有一夹角。
2.根据权利要求1中所述的干切削刀具,其特征在于,所述TiN涂层及所述TiCN涂层采用TiCl4为钛源反应气体,先将TiCl4的温度升高到136℃以上,采用水浴加热来获得TiCl4气体,并用载气H2进行输送。
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