[发明专利]一种显示面板的制作方法以及显示面板有效
| 申请号： | 201810443917.7 | 申请日： | 2018-05-10 |
| 公开（公告）号： | CN108663855B | 公开（公告）日： | 2019-08-13 |
| 发明（设计）人： | 曹武 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电半导体显示技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1335 | 分类号： | G02F1/1335;G02F1/1339 |
| 代理公司： | 深圳翼盛智成知识产权事务所(普通合伙) 44300 | 代理人： | 黄威 |
| 地址： | 518132 广东省深*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 显示面板 基板 保留区域 光刻胶 非显示区 光刻胶层 曝光显影 遮光材料 间隔物 遮光层 制作 光刻胶材料 光刻胶图案 生产效率 显示区 涂敷 制程 去除 保留 | ||
1.一种显示面板的制作方法，其特征在于，包括：
提供一基板，所述基板包括显示区和非显示区；
在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域；
在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。
2.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述基板上形成光刻胶层，并对所述光刻胶层进行曝光显影，以在所述光刻胶层上形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域，包括：
在所述基板上形成光刻胶层，采用第一掩膜板对所述光刻胶层进行曝光显影，以形成光刻胶图案，所述光刻胶图案包括第一光刻胶保留区域和第二光刻胶保留区域。
3.根据权利要求2所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一掩膜板包括第一透光区域和第二透光区域，所述第一透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第一光刻胶保留区域重合，所述第二透光区域在所述光刻胶层上的投影与所述第二光刻胶保留区域重合。
4.根据权利要求3所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一透光区域的透光度为第一预设值，所述第二透光区域的透光度为第二预设值，所述第一预设值小于所述第二预设值。
5.根据权利要求2～4任一项所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第一光刻胶保留区域上的所述光刻胶层的厚度大于所述第二光刻胶保留区域上的所述光刻胶层的厚度。
6.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，并对所述遮光材料进行曝光显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度，包括：
在形成所述光刻胶图案的所述基板上涂敷遮光材料，采用第二掩膜板对所述遮光材料进行曝光，并对曝光后的遮光材料进行显影，以在所述基板的非显示区上形成遮光层，其中，所述遮光层在所述第一光刻胶保留区域上形成第一间隔物，以及在所述第二光刻胶保留区域上形成第二间隔物，且所述第一间隔物的高度高于所述第二间隔物的高度。
7.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述第二掩膜板包括遮光区域和全透光区域，所述遮光区域在所述基板上的投影与所述非显示区重合，所述全透光区域在所述基板上的投影与所述显示区重合。
8.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述光刻胶层的材料为正性光刻胶或负性光刻胶。
9.根据权利要求1所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述遮光材料为黑色遮光树脂。
10.一种显示面板，其特征在于，采用如权利要求1～9任一项所述的方法制成。
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