[发明专利]坩埚盖、坩埚盖组件、蒸发源、蒸镀方法

说明书

本发明提供一种坩埚盖、坩埚盖组件、蒸发源、蒸镀方法，属于蒸镀技术领域，其可至少部分解决现有的蒸镀技术中喷嘴容易被堵塞的问题。本发明的坩埚盖包括用于盖住蒸镀坩埚的开口的盖体，所述盖体上具有用于与喷嘴连接的通孔；且，所述盖体内部具有封闭的空腔，所述空腔中设有用于进行加热的加热器件和固态的盐，所述加热器件的加热温度能使所述盐熔融。

技术领域

本发明属于蒸镀技术领域，具体涉及一种坩埚盖、坩埚盖组件、蒸发源、蒸镀方法。

背景技术

有源矩阵有机发光二极管(AMOLED)显示装置具有轻薄、功耗低、对比度和色域高、易实现柔性显示等优点，故获得了广泛的应用。有机发光二极管显示装置中的阴极、发光层等结构都可通过使用精细金属掩膜板(FFM)的蒸镀工艺制备。

具体的，如图1所示，将待蒸镀的基底至于真空的蒸镀腔室中，而蒸镀材料3(如铝)则加入蒸镀坩埚9中，蒸镀坩埚9的开口被坩埚盖(Cap)的盖体1盖住，且盖体1的通孔19连接喷嘴2；蒸镀坩埚9将蒸镀材料3加热至其蒸发温度以上，从而蒸镀材料3被蒸发，其蒸汽通过喷嘴2中的气体通道29喷出，再经过精细金属掩膜板后在基底上形成所需图案(若不使用精细金属掩膜板则可形成完整的层)。

但是，坩埚盖本身没有加热功能，且喷嘴的导热能力也较差，故喷嘴顶部温度通常低于底部温度(如现有坩埚盖蒸镀时温度可在402℃，相应的EV2型喷嘴底部温度为340℃，而顶部温度则只有337℃，热传导的效率约为84.6％)，从而导致蒸镀材料的蒸汽容易在喷嘴中凝结并发生聚集，堵塞喷嘴，影响产品性能与蒸镀产能。

发明内容

本发明至少部分解决现有的蒸镀技术中喷嘴容易被堵塞的问题，提供一种可避免喷嘴堵塞的坩埚盖、坩埚盖组件、蒸发源、蒸镀方法。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种坩埚盖，包括用于盖住蒸镀坩埚的开口的盖体，所述盖体上具有用于与喷嘴连接的通孔；且，

所述盖体内部具有封闭的空腔，所述空腔中设有用于进行加热的加热器件和固态的盐，所述加热器件的加热温度能使所述盐熔融。

优选的是，所述盐的工作温度在150℃～1300℃，在所述工作温度下，所述盐能完全熔融且不发生蒸发或分解。

进一步优选的是，所述盐的工作温度在150℃～550℃。

进一步优选的是，所述盐由等重量的硝酸钾和亚硝酸钠组成。

优选的是，所述盖体用于设置喷嘴的一侧表面设有凹槽；

所述通孔设于凹槽底部，当所述喷嘴连接通孔时，所述喷嘴的至少一部分位于凹槽内。

进一步优选的是，所述凹槽的垂直于其深度方向的截面的形状为圆形。

优选的是，所述盖体由金属材料构成。

进一步优选的是，所述金属材料为钛。

优选的是，所述空腔在盖体中均匀分布；

所述加热器件在空腔中均匀分布。

优选的是，所述通孔的侧壁设有与喷嘴上的外螺纹匹配的内螺纹。

优选的是，所述通孔有多个，所述盖体为条状，且所述多个通孔沿盖体的长度方向均匀分布。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种坩埚盖组件，其包括：

上述的坩埚盖；

连接所述坩埚盖的盖体的通孔的喷嘴，所述喷嘴中具有用于供蒸镀材料的蒸汽通过的气体通道。

解决本发明技术问题所采用的技术方案是一种蒸发源，其包括：

蒸镀坩埚，其用于容纳并蒸发蒸镀材料，且具有开口；