[发明专利]数字化光刻系统和方法

权利要求书

1.一种数字化光刻系统，其特征在于，包括：

基板，包括多个任务区域，其中每个任务区域用于放置一个或多个待曝光产品，且任意一个待曝光产品只位于一个任务区域中；

光学引擎阵列，设置在所述基板的上方，所述光学引擎阵列包括多个光学引擎；

移动平台，固定在所述数字化光刻系统的基座上，用于承载所述基板并驱动所述基板平移；

引擎位置调整装置，用于驱动所述光学引擎阵列中的光学引擎平移；

控制系统，根据所述多个任务区域的信息，控制所述移动平台和所述引擎位置调整装置，以使所述光学引擎阵列中的每个光学引擎曝光对应的任务区域，其中，每个任务区域由所述光学引擎阵列中的单个光学引擎进行曝光；

所述控制系统控制所述引擎位置调整装置调整所述光学引擎阵列中每个光学引擎的起始位置，使得所述光学引擎阵列中光学引擎之间的横向间距均为所述任务区域的长度的整数倍。

2.根据权利要求1所述的系统，其特征在于，

所述任务区域包括多个出图区域，所述光学引擎阵列对所述多个任务区域进行曝光；

在所述出图区域小于所述光学引擎的扫描区域时，所述控制系统控制所述光学引擎的部分数字微型反射镜DMD关闭，以使得所述光学引擎完成对所述出图区域的曝光。

3.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，所述控制系统控制所述引擎位置调整装置调整所述光学引擎阵列中每个光学引擎的起始位置，使得所述光学引擎阵列中光学引擎之间的纵向间距均为所述任务区域的宽度的整数倍。

4.根据权利要求2所述的系统，其特征在于，所述控制系统控制所述引擎位置调整装置调整所述光学引擎阵列中每个光学引擎的起始位置，使得所述每个光学引擎对应的任务区域在长度方向上包括最多一个小于所述扫描区域的出图区域。

5.根据权利要求2或4所述的系统，其特征在于，所述控制系统控制所述引擎位置调整装置调整所述光学引擎阵列中每个光学引擎的起始位置，使得所述每个光学引擎对应的任务区域在宽度方向上包括最多一个小于所述扫描区域的出图区域。

6.根据权利要求1或2所述的系统，其特征在于，在曝光过程中，所述基板沿第一方向和第二方向平移，所述光学引擎阵列位置保持不变，所述第一方向和所述第二方向垂直。

7.一种数字化光刻的方法，所述方法应用于权利要求1至6中任一项所述的数字化光刻系统中，其特征在于，包括：

确定基板的多个任务区域，其中，每个任务区域包括一个或多个待曝光产品，且任意一个待曝光产品只位于一个任务区域中；

控制光学引擎阵列对所述多个任务区域进行曝光，所述每个任务区域由所述光学引擎阵列中的单个光学引擎进行曝光；

所述光学引擎阵列中光学引擎之间的横向间距均为所述任务区域的长度的整数倍。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于，所述任务区域包括多个出图区域，所述控制所述光学引擎阵列对所述多个任务区域进行曝光，包括：

在所述出图区域小于所述光学引擎的扫描区域时，关闭所述光学引擎的部分数字微型反射镜DMD，以使得所述光学引擎完成对所述出图区域的曝光。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，所述光学引擎阵列中光学引擎之间的纵向间距均为所述任务区域的宽度的整数倍。

10.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，

各所述光学引擎的任务区域在长度方向上包括最多一个小于所述扫描区域的出图区域。

11.根据权利要求8所述的方法，其特征在于，

各所述光学引擎的任务区域在宽度方向上包括最多一个小于所述扫描区域的出图区域。

12.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于，在曝光过程中，所述基板沿第一方向和第二方向平移，所述光学引擎阵列位置保持不变，所述第一方向和所述第二方向垂直。