[发明专利]曝光方法

说明书

本发明提供一种能够减少因对焦偏差产生的问题的曝光方法。曝光装置(1)的控制部(18)在对直线排列的无法测定对焦值的不可测定照射区域(27a)以及与不可测定照射区域(27a)邻接且能够测定对焦值的可测定照射区域(28)进行曝光的情况下，利用紧挨之前曝光的邻接的可测定照射区域(28)的对焦值对不可测定照射区域(27a)进行曝光，来对可测定照射区域(28)和不可测定照射区域(27a)交替地进行曝光。

技术领域

本发明涉及一种曝光方法。

背景技术

作为现有技术，已知一种以如下方式决定曝光顺序的曝光方法：在一个基板组的第一张基板中，在位于规定的排列方向的端部的曝光区域中无法在三处以上的测量点测量高度的情况下，最初对与该曝光区域不同且能够在三处以上的测量点测定高度的曝光区域进行曝光，在一个基板组的第二张基板中，最初对位于端部的曝光区域进行曝光(例如参照专利文献1。)。

专利文献1：日本特开2016-206654号公报

发明内容

发明要解决的问题

在以往的曝光方法中，例如在连续地无法对测量点进行测量的情况下，最后测量出测量点的曝光区域与作为曝光对象的曝光区域之间的距离远，有可能发生对焦偏差。

因而，本发明的目的在于提供一种能够减少因对焦偏差产生的问题的曝光方法。

用于解决问题的方案

本发明的一个方式提供一种曝光方法，其中，在对直线排列的无法测定对焦值的不可测定照射区域以及与不可测定照射区域邻接且能够测定对焦值的可测定照射区域进行曝光的情况下，对不可测定照射区域利用紧挨之前曝光的邻接的可测定照射区域的对焦值进行曝光，来对可测定照射区域和不可测定照射区域交替地进行曝光。

发明的效果

根据本发明，能够减少因对焦偏差产生的问题。

附图说明

图1的(a)是表示实施方式所涉及的曝光装置的一例的概要图，图1的(b)是用于说明曝光的一例的概要图。

图2的(a)是用于说明实施方式所涉及的曝光装置的可测定照射区域(日语：ショット)和不可测定照射区域的一例的概要图，图2的(b)是表示曝光图案的一例的概要图。

图3是表示实施方式所涉及的曝光装置的曝光方法的一例的流程图。

附图标记说明

1：曝光装置；2：晶圆；3：光掩模；4：曝光图案；10：载置台；12：缩小投影光学系统；14：照明光学系统；16：对焦值测定部；18：控制部；20：表面；21：定向平面；25：曝光照射区域；26：对焦测定点；27：不可测定照射区域；27a：不可测定照射区域；28：可测定照射区域；30：掩模图案；31：小格(日语：ダイ)；40：第一曝光图案；41：第二曝光图案；100：曝光光；160：发光部；160a：检查光；161：检测部；161a：反射光；180：软件；181：曝光信息。

具体实施方式

(实施方式的摘要)

实施方式所涉及的曝光方法包括以下步骤：在对直线排列的无法测定对焦值的不可测定照射区域以及与不可测定照射区域邻接且能够测定对焦值的可测定照射区域进行曝光的情况下，对不可测定照射区域利用紧挨之前曝光的邻接的可测定照射区域的对焦值进行曝光，来对可测定照射区域和不可测定照射区域交替地进行曝光。