[发明专利]显示面板及其制作方法、显示装置

权利要求书

1.一种显示面板，其特征在于，包括显示区和开槽区，所述显示区和所述开槽区均包含TFT背板结构，所述显示区具有多行像素，所述像素通过在显示区像素定义层的开口处蒸镀有机发光层形成，所述开槽区的像素定义层开口率为零，所述显示面板不在所述开槽区对应的衬底基板上沉积多晶硅层。

2.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开槽区和所述显示区包括：

衬底基板；

在所述显示区对应的所述衬底基板上形成的多晶硅层，所述多晶硅层用于导通电流；

在所述多晶硅层上形成的中间层；

在所述中间层上形成的像素定义层，所述显示区对应的像素定义层上设置有开口，所述开口用于蒸镀有机发光层；在所述开槽区的像素定义层以及所述显示区的像素定义层上未设置开口处形成的支撑层。

3.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开槽区包括：

衬底基板；

在所述衬底基板上开槽区对应的区域形成的中间层；

在所述中间层上形成的像素定义层；

在所述像素定义层上形成的支撑层。

4.根据权利要求2或3所述的显示面板，其特征在于，所述中间层包括：

栅极绝缘层；

在所述栅极绝缘层上形成的第一金属层；

在所述第一金属层上形成的层间绝缘层；

在所述层间绝缘层上形成的第二金属层；

在所述第二金属层上形成的钝化层；

在所述钝化层上形成的第三金属层；

在所述第三金属层上形成的平坦化层；

在所述平坦化层上形成的阳极层。

5.根据权利要求1所述的显示面板，其特征在于，所述开槽区设置于所述显示面板的顶部、侧部或底部中的任一处。

6.一种显示面板的制作方法，所述显示面板包括显示区及开槽区，其特征在于，所述方法包括以下步骤：

提供衬底基板；

在所述衬底基板上沉积多晶硅层，通过光刻和刻蚀将所述多晶硅层图案化；

在所述多晶硅层上形成中间层；

在中间层上沉积像素定义层，通过光刻和刻蚀将显示区对应的像素定义层图案化，使显示区对应的像素定义层上形成开口，所述开口用于蒸镀有机发光层；

在所述开槽区的像素定义层以及所述显示区的像素定义层上未设置开口处形成支撑层。

7.根据权利要求6所述的显示面板的制作方法，其特征在于，所述在所述衬底基板上沉积多晶硅层，通过光刻和刻蚀将所述多晶硅层图案化包括：

在所述衬底基板上显示区对应的区域沉积多晶硅层,通过光刻和刻蚀将所述多晶硅层图案化。

8.一种显示装置，其特征在于，包括权利要求1-5中任一项所述的显示面板。

9.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，还包括图像采集机构，所述图像采集机构设置于所述开槽区内。

10.根据权利要求8所述的显示装置，其特征在于，所述显示面板的开槽区还包括听筒、话筒、光线传感器、距离传感器、指纹识别传感器中的至少一种。