[发明专利]一种湿式制程设备液流物理洗净装置

说明书

一种湿式制程设备液流物理洗净装置，横向安装在湿式制程设备中，包括本体，本体包括特氟龙管，所述特氟龙管为一端封口，另一端设有连接孔的圆柱形腔体，其连接孔端与湿式制程机台的药液进液管联通，且端部与湿式制程机台的传动装置轴套连接，特氟龙管的圆柱外壁设有均匀排列的通孔，特氟龙管外壁设有包覆的刷毛。本发明所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置，设计为整合型模刷清洗机构，特氟龙管一端通入药液，药液经特氟龙管上的通孔流出，可一边刷一边通入药液，药液从刷毛间流出，洗刷过程中的冲力可以使得脏污难以粘附在毛刷上，保持毛刷的洁净度，从而可保证对半导体晶圆刷洗过程中不带入污染物，提高良品率的同时，延长模刷的使用寿命。

技术领域

本发明涉及湿式制程设备领域，尤其涉及一种湿式制程设备液流物理洗净装置。

背景技术

半导体制程是在超洁净无尘室进行的，仍然有些污染源的存在，至于污染源的来源，不外乎设备本身材料产生、现场作业员或制程工程师人体自身与动作的影响、化学材料或制程药剂残留或不纯度的发生，以及制程反应产生物的结果，尤其是制程反应产生物一项，更成为制程污染的主要来源，大多会造成良率和可靠度的下降；在半导体制程中，无论是在去光阻、化学气相沉淀、氧化扩散、晶圆研磨以后等各阶段制程都需要反复清洗步骤。

湿式制程机台在半导体产业已是成熟发展，但有些机构设计，使用上有维修困难、耗液量大、均匀性不佳、漏液，背面脏污等等问题。其中，模刷机构最常被使用到，主要用来刷除基板上半导体晶圆表面残留的污染物等，但刷毛使用一段时间后，其表面经常会粘附脏污，容易将脏污带入到半导体晶圆上，影响产品的良率，另外，刷毛因容易粘附脏污，导致刷毛的使用寿命降低，需要经常更换，费时费力的同时，增加了设备成本降低了生产效率。

发明内容

本发明正是针对现有技术存在的不足，提供了一种湿式制程设备液流物理洗净装置。

为解决上述问题，本发明所采取的技术方案如下：

一种湿式制程设备液流物理洗净装置，横向安装在湿式制程设备中，包括本体，所述本体包括特氟龙管，所述特氟龙管为一端封口，另一端设有连接孔的圆柱形腔体，其连接孔端与湿式制程机台的药液进液管联通，且端部与湿式制程机台的传动装置轴套连接，特氟龙管的圆柱外壁设有均匀排列的通孔，特氟龙管外壁设有包覆的刷毛。

进一步的，所述湿式制程设备包括传动辊和喷淋管，所述传动辊为圆柱形，其上承载有基板，喷淋管位于载具上方，特氟龙管位于基板与喷淋管之间，且特氟龙管的刷毛与基板上表面紧贴。

进一步的，所述特氟龙管上通孔呈螺旋状均匀排列。

进一步的，所述刷毛外表面整体为海绵体型的波点。

本发明与现有技术相比较，本发明的有益效果如下：

本发明所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置，设计为整合型模刷清洗机构，特氟龙管一端可通入药液，药液经特氟龙管上的通孔流出，可一边刷一边通入药液，药液从刷毛间流出，洗刷过程中的冲力可以使得脏污难以粘附在毛刷上，保持毛刷的洁净度，从而可保证对半导体晶圆刷洗过程中不带入污染物，提高良品率的同时，延长模刷的使用寿命。

附图说明

图1为本发明所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置结构示意图。

具体实施方式

下面将结合具体的实施例来说明本发明的内容。

如图1所示为本发明所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置结构示意图，所述的一种湿式制程设备液流物理洗净装置，横向安装在湿式制程设备中，包括本体1，所述本体1包括特氟龙管2，所述特氟龙管2为一端封口，另一端设有连接孔的圆柱形腔体，其连接孔端与湿式制程机台的药液进液管3联通，且端部与湿式制程机台的传动装置轴套连接，特氟龙管2的圆柱外壁设有均匀排列的通孔4，特氟龙管2外壁设有包覆的刷毛5。