[发明专利]硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料

说明书

本申请提供一种硅胶材料的表面处理方法、装置以及硅胶材料，该方法包括：确定硅胶材料对应的光照参数；控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。本申请的技术方案通过控制紫外光照射到硅胶材料的表面，可以使附着在硅胶材料表面的脏污物质与活性氧以及臭氧发生化学反应，进而使硅胶材料的表面的化学分子具有规则的排列方式，由于化学分子的排列方式具有规则，使硅胶材料的表层结构更紧致，从而可提高硅胶表层的附着力，进而提高硅胶表层的爽滑度。

技术领域

本申请涉及材料处理技术领域，尤其涉及一种硅胶材料的表面处理方法以及硅胶材料。

背景技术

硅胶材料在目前的应用中存在吸灰、表面不抗静电、不爽滑等问题。现有技术中，通过在硅胶材料的表面喷涂油漆来改善上述技术问题。由于油漆在硅胶材料的表面的附着力不好，导致油漆容易脱落，从用户的角度来说，会感受到硅胶材料表面的手感不佳。

发明内容

有鉴于此，本申请提供一种新的技术方案，可以使硅胶材料的表面更爽滑。

为实现上述目的，本申请提供技术方案如下：

根据本申请的第一方面，提出了一种硅胶材料的表面处理方法，包括：

确定硅胶材料对应的光照参数；

控制光源发射具有所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；

当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。

根据本申请的第二方面，提出了一种硅胶材料的表面处理装置，包括：

第一确定模块，用于确定硅胶材料对应的光照参数；

控制模块，用于控制光源发射具有所述第一确定模块确定的所述光照参数的紫外光，所述紫外光照射在所述硅胶材料的表面；

所述控制模块，还用于当达到预设条件时，控制所述光源停止发射所述紫外光，得到具有硅胶表层的硅胶材料，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。

根据本申请的第三方面，提出了一种硅胶材料，所述硅胶材料包括：硅胶本体和硅胶表层，其中，所述硅胶表层通过上述权利要求1-4任一所述的方法处理得到，所述硅胶表层中的分子具有规则的排列方式。

由以上技术方案可见，本申请通过控制紫外光照射到硅胶材料的表面，可以使附着在硅胶材料表面的脏污物质与活性氧以及臭氧发生化学反应，进而使硅胶材料的表面的化学分子具有规则的排列方式，由于化学分子的排列方式具有规则，使硅胶材料的表层结构更紧致，从而可提高硅胶表层的附着力，进而提高硅胶表层的爽滑度；此外，由于本发明实施例不需要在硅胶材料的表面喷涂油漆，因此硅胶材料更加环保和安全；由于硅胶表层的分子具有规则的排列方式，因此不易集结成电荷，进而使得硅胶材料还能够抗静电。

附图说明

图1A为本发明一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；

图1B为图1A所示实施例所适用的场景示意图；

图1C为通过图1A所示实施例处理得到的硅胶材料的结构示意图；

图2为本发明另一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；

图3为本发明再一示例性实施例的硅胶材料的表面处理方法的流程图；

图4为本发明一示例性实施例的硅胶材料的表面处理装置的结构图；

图5为本发明另一示例性实施例的硅胶材料的表面处理装置的结构图。