[发明专利]紫外线消毒系统

权利要求书

1.一种紫外线消毒系统，其包括：

消毒室；及

紫外线UV源，其包括：

半导体装置，其包括安置在n型区与p型区之间的有源层，其中所述有源层发射具有在UV范围内的峰值波长的辐射；

密封隔室，其包括：

支撑件，其中所述半导体装置经安置在所述支撑件上；

帽，其环绕所述半导体装置；及

透明窗口，其经附接到所述帽，所述透明窗口形成所述消毒室的壁。

2.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括透镜，所述透镜经安置在所述半导体装置与所述密封隔室中的所述透明窗口之间。

3.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括复合抛物面准直器，所述复合抛物面准直器经安置在所述半导体装置与所述密封隔室中的所述透明窗口之间。

4.根据权利要求1所述的系统，其中所述消毒室的内表面是由食品安全材料制成。

5.根据权利要求1所述的系统，其中所述透明窗口经成形为透镜。

6.根据权利要求1所述的系统，其进一步包括超声处理装置，所述超声处理装置用于在所述消毒室中产生声能。

7.根据权利要求1所述的系统，其中所述消毒室包括第一过滤器及第二过滤器，其中流体通过所述第一过滤器进入所述消毒室且通过所述第二过滤器离开所述消毒室。

8.根据权利要求1所述的系统，其中所述消毒室的内表面包括：

平滑层；

反射层，及

保护层。

9.根据权利要求8所述的系统，其中：

所述平滑层是铝的氧化物；

所述反射层是铝；且

所述保护层是硅的氧化物。

10.根据权利要求1所述的系统，其中端壁可从细长室的剩余部分移除。