[发明专利]用于非金属盖板的浅金色涂层Logo及其制备方法

权利要求书

1.一种用于非金属盖板的浅金色涂层Logo，其特征在于，包括非金属盖板表面依次层叠设置的第一Nb₂O₅层的厚度为25.5-27nm，第一SiO₂层的厚度为166-174nm，第二Nb₂O₅层的厚度为105-109nm，第二SiO₂层的厚度为142-148nm，第三Nb₂O₅层的厚度为80-84nm，第三SiO₂层的厚度为115-120nm，第四Nb₂O₅层的厚度为77-83nm，第四SiO₂层的厚度为109-115nm，第五Nb₂O₅层的厚度为57-60nm，第五SiO₂层的厚度为29.5-31nm，Si₃N₄层的厚度为5-8nm；

所述非金属盖板为陶瓷盖板，陶瓷盖板的厚度为0.3-1mm。

2.按照权利要求1所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo，其特征在于，陶瓷盖板的厚度为0.5-0.8mm。

3.按照权利要求2所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo，其特征在于，陶瓷盖板的厚度为0.5-0.6mm。

4.一种权利要求1-3任一项所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo的制备方法，其特征在于，包括以下步骤：

在非金属盖板表面依次制备第一Nb₂O₅层、第一SiO₂层、第二Nb₂O₅层、第二SiO₂层、第三Nb₂O₅层、第三SiO₂层、第四Nb₂O₅层、第四SiO₂层、第五Nb₂O₅层、第五SiO₂层和Si₃N₄层，得到浅金色涂层Logo。

5.按照权利要求4所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo的制备方法，其特征在于，通过磁控溅射法在非金属盖板表面依次制备第一Nb₂O₅层、第一SiO₂层、第二Nb₂O₅层、第二SiO₂层、第三Nb₂O₅层、第三SiO₂层、第四Nb₂O₅层、第四SiO₂层、第五Nb₂O₅层、第五SiO₂层和Si₃N₄层，得到浅金色涂层Logo。

6.按照权利要求5所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo的制备方法，其特征在于，非金属盖板为表面通过丝印或者保护膜遮蔽方式形成镂空的Logo图案的非金属盖板。

7.按照权利要求5所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo的制备方法，其特征在于，各Nb₂O₅层均独立地采用磁控反应溅射Nb靶得到。

8.按照权利要求5所述的用于非金属盖板的浅金色涂层Logo的制备方法，其特征在于，各SiO₂层均独立地采用磁控反应溅射Si靶得到。