[发明专利]基于伽马过程线性回归的逆合成孔径雷达成像方法有效

专利信息
申请号: 201810465728.X 申请日: 2018-05-16
公开(公告)号: CN108646247B 公开(公告)日: 2020-04-07
发明(设计)人: 白雪茹;张毓;李小勇;刘思琦;周峰 申请(专利权)人: 西安电子科技大学
主分类号: G01S13/90 分类号: G01S13/90
代理公司: 陕西电子工业专利中心 61205 代理人: 田文英;王品华
地址: 710071 陕*** 国省代码: 陕西;61
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 基于 过程 线性 回归 合成孔径雷达 成像 方法
【权利要求书】:

1.一种基于伽马过程线性回归的逆合成孔径雷达成像方法,其特征在于,对每个距离单元的权向量建立伽马过程-高斯层级模型,对噪声向量建立伽马-高斯层级模型,利用最大后验-期望最大MAP-EM算法,计算每个距离单元的权向量;该方法的具体步骤包括如下:

(1)接收缺损回波:

通过逆合成孔径雷达向运动目标发射线性调频信号,并获取噪声环境下所发射线性调频信号的Nr×Na的缺损回波矩阵,其中,Nr表示缺损回波的距离单元数,Na表示缺损回波的方位单元数;

(2)生成实转置回波矩阵:

(2a)利用解线频调方法,对缺损回波矩阵进行解线频调,得到解线频调后的矩阵;

(2b)删除解线频调后的矩阵中缺损距离单元的列向量,得到Nr×Nd的有效回波矩阵,其中,Nd表示删除缺损列向量后的有效方位单元数;

(2c)对有效回波矩阵沿距离向做傅里叶变换,得到距离向脉冲压缩后的矩阵;

(2d)对距离向脉冲压缩后的矩阵进行转置操作,得到复转置回波矩阵;

(2e)利用公式构造维数为2Nd×Nr的实转置回波矩阵,其中,Re(·)表示取实部操作,Im(·)表示取虚部操作,Sc表示复转置回波矩阵;

(3)构造实傅里叶字典:

(3a)以为元素,构造维数为Na×Na的复傅里叶字典,其中,e(·)表示以自然常数为底的指数操作,j表示虚数单位,π表示圆周率,m表示复傅里叶字典行的序号,n表示复傅里叶字典列的序号,行序号m与列序号n的取值范围均为[-Na/2,Na/2-1];

(3b)删除复傅里叶字典中缺损回波矩阵的缺损列序号所对应的行,得到维数为Nd×Na的有效傅里叶字典;

(3c)利用公式构造实傅里叶字典,其中,Φe表示有效傅里叶字典;

(4)按照下式,构建每个距离单元的信号模型:

Sf=Φωf

其中,Sf表示实转置回波矩阵的第f个列向量,Φ表示实傅里叶字典,ωf表示第f个距离单元的权向量,ε表示噪声向量;

(5)按照下式,对每个距离单元的权向量建立伽马过程-高斯层级模型:

p(ωf)=N(0,Σ)

其中,p(ωf)表示第f个距离单元的权向量ωf的概率密度,N(0,Σ)表示均值为0、协方差矩阵为Σ的高斯分布的概率密度,所述协方差矩阵Σ中每个对角线元素的先验分布如下:

p(ηj)=Gam(P,1)

其中,p(ηj)表示协方差矩阵Σ中第j个对角线元素ηj的概率密度,Gam(P,1)表示参数为P和1的伽马分布的概率密度,P表示协方差矩阵Σ中每个对角线元素的超参数;

(6)按照下式,对噪声向量建立伽马-高斯层级模型:

p(εi)=N(0,α-1)

其中,p(εi)表示噪声向量第i个元素εi的概率密度,N(0,α-1)表示均值为0、精度为α的高斯分布的概率密度,所述精度α的先验分布如下:

p(α)=Gam(a,b)

其中,p(α)表示精度α的概率密度,Gam(a,b)表示参数为a和b的伽马分布的概率密度,a表示精度α的形状参数,b表示精度α的尺度参数;

(7)利用最大后验-期望最大MAP-EM算法,计算每个距离单元的权向量:

(7a)将当前距离单元序号设置为1;

(7b)将当前迭代次数设置为1;

(7c)利用参数计算公式,计算当前迭代次数的当前距离单元的权向量;

(7d)判断当前迭代次数是否大于1,若是,则执行步骤(7e);否则,将当前迭代次数加1后执行步骤(7c);

(7e)判断是否小于终止阈值η=10-5,若是,则执行步骤(7f);否则,执行步骤(7c),其中,表示第k次迭代后第q个距离单元的权向量,q表示当前距离单元的序号,||·||2表示2范数操作;

(7f)判断当前距离单元序号是否等于Nr,若是,则执行步骤(8);否则,将当前距离单元序号加1后执行步骤(7b);

(8)生成复权值矩阵:

(8a)将每个距离单元的权向量按列拼成权值矩阵;

(8b)生成复权值矩阵,所述复权值矩阵的实部为权值矩阵中的第1,…,Na行,复权值矩阵的虚部为权值矩阵中的第Na+1,…,2Na行;

(9)二维高分辨成像:

对复权值矩阵进行转置操作,得到二维高分辨逆合成孔径雷达ISAR成像结果。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于西安电子科技大学,未经西安电子科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810465728.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top