[发明专利]一种掺杂氧化锡复合导电薄膜的制备方法在审

专利信息
申请号: 201810468090.5 申请日: 2018-05-15
公开(公告)号: CN108615585A 公开(公告)日: 2018-10-02
发明(设计)人: 朱凯;何寿成;侯海军;戴海璐;吴其胜 申请(专利权)人: 盐城工学院
主分类号: H01B13/00 分类号: H01B13/00
代理公司: 南京业腾知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 32321 代理人: 李静
地址: 224051 *** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 复合导电薄膜 掺杂氧化锡 混合液 石墨烯 喷涂 制备 超声喷雾热解 导电薄膜表面 电导率 氧化锡薄膜 氩气 超声分散 导电薄膜 导电效果 基板表面 基板结合 结构致密 退火处理 有机溶剂 掺杂剂 涂膜机 氧化锡 薄膜
【说明书】:

发明涉及一种掺杂氧化锡复合导电薄膜的制备方法,将SnCl4、掺杂剂和有机溶剂制成混合液,静置后加入石墨烯进行超声分散,通过超声喷雾热解涂膜机喷涂在基板表面,再喷涂不含石墨烯的混合液,置于氩气中在500℃退火处理,制得氧化锡导电薄膜。本发明解决了氧化锡薄膜电导率较低的问题,采用的设备简单,易于控制,制得的导电薄膜表面均匀,结构致密,导电效果好,薄膜与基板结合牢固。

技术领域

本发明涉及一种掺杂氧化锡复合导电薄膜的制备方法,属于无机非金属材料领域。

背景技术

导电薄膜作为一种绿色、节能的新型材料,备受各行业关注。由于其电导率好、可见光透过率高,被广泛应用在电子显示屏、太阳能电池等领域。导电薄膜中氧化物膜占主导地位,例如SnO2薄膜。SnO2是一种具有四方金红石结构的n型半导体,具有化学稳定性好和光学各向异性的特点。SnO2内过剩的Sn原子起施主作用,使SnO2薄膜具有导电性能。但是,SnO2薄膜的电导率很低。

为了改善SnO2导电薄膜的导电性能,常在SnO2薄膜制备过程中掺杂例如Sb、In、Pt和F等元素,但是导电薄膜的导电性能改善情况仍然有限。

目前,导电薄膜常用的制备方法是磁控溅射法和真空蒸发法。磁控溅射法设备复杂,成本较高;真空蒸发法制备的薄膜晶体结构生长较差、在基板上的附着力较小。

发明内容

本发明的目的在于解决现有技术中氧化锡薄膜导电能力较差的问题,提供一种掺杂氧化锡复合导电薄膜的制备方法,采用的设备简单,易于控制,制得的导电薄膜表面均匀,结构致密,导电效果好,薄膜与基板结合牢固。

技术方案

本发明将原料溶于有机溶剂中配成溶液,再加入石墨烯,在高压下雾化喷入高温气氛中,反应物发生热分解或燃烧等化学反应,从而得到具有全新化学组成的超微粒产物,并在基板表面喷涂不含石墨烯溶液,保护石墨烯不被氧化,制得双层薄膜。具体方案如下:

一种掺杂氧化锡复合导电薄膜的制备方法,包括如下步骤:

(1)将SnCl4、掺杂剂溶于有机溶剂,制得混合液;

(2)将步骤(1)的混合液静置10~20h后,加入石墨烯,超声分散均匀,得到含石墨烯的混合液;

(3)重复步骤(1),制备得到不含石墨烯的混合液,将步骤(2)制得的含石墨烯的混合液通过超声喷雾热解涂膜机喷涂到基板表面,再喷涂不含石墨烯的混合液,然后置于氩气中退火处理,得到掺杂氧化锡复合导电薄膜;

进一步,步骤(1)中,所述掺杂剂选自硝酸镧﹣三氯化锑、硝酸钇﹣三氯化锑或硝酸铈﹣三氯化锑中的任意一种,其中硝酸镧、硝酸钇以及硝酸铈与三氯化锑的摩尔比均为0.1~1:1。

进一步,步骤(1)中,所述掺杂剂与SnCl4的摩尔比1:20~100。

进一步,步骤(1)中,所述有机溶剂选自乙醇、二甲基甲酰胺或二者任意比例的混合液,优选为乙醇与二甲基甲酰胺的体积比为1~9:1的混合液。

进一步,步骤(1)中,混合液中,SnCl4的浓度为0.5~0.9mol/L。

进一步,步骤(2)中,石墨烯与SnCl4的质量比为0.01~0.1:100。

进一步,步骤(2)中,超声分散的频率为40kHz,时间为2~5h。

进一步,步骤(3)中,含石墨烯的混合液的体积为不含石墨烯的混合液的2倍。

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