[发明专利]硬掩模用组合物及图案形成方法有效

专利信息
申请号: 201810469998.8 申请日: 2018-05-16
公开(公告)号: CN109143781B 公开(公告)日: 2022-03-04
发明(设计)人: 崔汉永;梁敦植;李殷相;崔相俊 申请(专利权)人: 东友精细化工有限公司;崔相俊
主分类号: G03F7/039 分类号: G03F7/039;G03F7/004
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 金鲜英;宋海花
地址: 韩国全*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 硬掩模用 组合 图案 形成 方法
【权利要求书】:

1.一种硬掩模用组合物,其包含:

含有咔唑单元与芴单元结合而成的重复单元且通过形成于所述咔唑单元的化学键而交联延长的共聚物;以及

溶剂,

所述共聚物包含下述的化学式3和化学式4所表示的重复单元中的至少一种:

化学式3

在化学式3中,R3为氢、碳原子数1~4的烷基、取代或未取代的苯基、萘基、蒽基、联苯基或均二苯乙烯基,

化学式4

在化学式4中,Ar为取代或未取代的亚苯基、亚萘基、亚蒽基、亚联苯基、或亚均二苯乙烯基,

在化学式3和化学式4中,R1和R2各自独立地为氢、碳原子数1~4的烷基、碳原子数为2~4的不饱和脂族烃基或碳原子数为6~20的芳香族烃基。

2.根据权利要求1所述的硬掩模用组合物,所述化学式3和化学式4中,R1和R2同时为氢、乙基、乙烯基或苯基。

3.根据权利要求1所述的硬掩模用组合物,在所述化学式4中,Ar来源于下述化学式5所表示的化合物:

化学式5

在化学式5中,R4和R5各自独立地为氢、甲基或乙基。

4.根据权利要求1所述的硬掩模用组合物,所述共聚物的含量在组合物总重量中为10~50重量%。

5.根据权利要求1所述的硬掩模用组合物,其进一步包含交联剂、催化剂和表面活性剂中的至少一种。

6.一种图案形成方法,其使用由权利要求1~5中任一项所述的硬掩模用组合物形成的抗蚀剂下层膜。

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