[发明专利]液体过滤器润湿方法

说明书

公开了一种润湿用于处理半导体制造中使用的液体溶剂的筒式过滤器的方法。在该方法中，将具有空隙空间的筒式过滤器连接至吹扫气体源，其中空隙空间包含来自用于制造筒式过滤器的制造工艺的残留气体。使吹扫气体流过筒式过滤器以至少部分地置换来自用于制造筒式过滤器的制造工艺的残留气体的至少一部分。接着，将液体溶剂泵送通过筒式过滤器，使得吹扫气体溶解到液体溶剂中并且至少部分地填充空隙空间，从而用液体溶剂至少部分地润湿筒式过滤器。

技术领域

本发明涉及一种润湿用于过滤在半导体装置制造中使用的液体溶剂(例如光致抗蚀剂流体)的筒式过滤器(filter cartridge)的方法。更具体地，本发明涉及气体的以下用途：在使液体溶剂流入筒式过滤器之前使气体流过筒式过滤器以吹扫残留气体并移动到过滤器中的空隙空间中，从而与在不使吹扫气体流过筒式过滤器的情况下使液体溶剂流过筒式过滤器相比，加速液体溶剂对筒式过滤器的润湿。

背景技术

目前，在半导体装置的生产中普遍使用诸如光致抗蚀剂流体的液体溶剂。光致抗蚀剂流体(包括正性光致抗蚀剂流体和负性光致抗蚀剂)被用于诸如光刻和照相制版的工艺以在半导体晶片的表面上形成涂覆图案。需要高纯度的光致抗蚀剂流体使得半导体装置不含可能妨碍或破坏半导体装置的功能的污染物、杂质等。此时，通常使光致抗蚀剂流体经历过滤以减少或消除从制造商处接收的光致抗蚀剂流体中可能存在的污染物。

光致抗蚀剂流体过滤通常通过使光致抗蚀剂流体流过包括尼龙或聚四氟乙烯过滤器的筒式过滤器来进行。从制造商处接收的筒式过滤器包括空隙空间，液体溶剂例如光致抗蚀剂流体通过该空隙空间流过固体过滤器表面。目前，使液体溶剂流过筒式过滤器以填充过滤器中的空隙空间直至不再有气泡离开筒式过滤器。这种技术使过滤器完全润湿，并且还用于从过滤器中冲洗掉任何不期望的污染物。因此，对过滤器进行冲洗和润湿以清洗过滤膜，减少滤出物(leachables)和下游系统中的任何处理或安装残留物的存在，并且在使用前完整性测试之前润湿过滤器。滤出物和下游颗粒的减少是液体溶剂冲洗实现针对完整性测试的润湿的固有益处，并且不需要单独的操作。然而，离开过滤器的液体溶剂被废弃，导致成本与所期望的相比增加。本文中，本发明人认识到，从制造商处接收的筒式过滤器中的残留气体与所期望的相比更慢地溶解到液体溶剂中，导致液体溶剂的效率低下和损失。

例如，图1示出了目前行业中用于润湿筒式过滤器的冲洗工艺中使用的现有技术系统。在该装置中，液体溶剂例如光致抗蚀剂流体润湿过滤器，将气泡冲掉，并且还将用于制造过滤器的制造工艺中留下的可滤出污染物冲洗掉。液体溶剂通常进行冲洗直至没有气泡出现在离开筒式过滤器的液体溶剂中。用于冲洗筒式过滤器的液体溶剂被废弃。

本文中，本发明人认识到，废弃的光致抗蚀剂流体是浪费的并且增加了制造半导体装置的成本。本发明人试图为该问题提供解决方案。

发明内容

本发明提供了针对一个或更多个上述问题或缺点的解决方案。

在本发明的实践中，所述方法润湿用于处理在半导体制造中使用的液体溶剂的筒式过滤器。在该方法中，将具有空隙空间(其中所述空隙空间包含来自用于制造筒式过滤器的制造工艺的残留气体)的筒式过滤器连接至用于吹扫残留气体的气体源。如本文所使用的，用于吹扫残留气体的气体被称为“吹扫气体”。使吹扫气体流过筒式过滤器以至少部分地置换来自用于制造筒式过滤器的制造工艺的残留气体的至少一部分。接着，将液体溶剂泵送通过筒式过滤器，使得吹扫气体溶解到液体溶剂中并且至少部分地填充空隙空间，从而用液体溶剂至少部分地润湿透筒式过滤器。