[发明专利]一种柔性触控元件及其制备方法

说明书

本发明是一种柔性触控元件及其制备方法，该柔性触控元件包括基材、连接在基材上表面的触控层和连接在触控层上表面是保护层，所述触控层包括由下到上依次层叠的第一阻挡层、第一触控电极、第二阻挡层、第二触控电极和阻水层，所述保护层包括由下到上依次层叠的光学补偿层、支撑层和抗反射层，所述柔性触控元件的制备方法，包括如下步骤：a清洗基材、b形成触控层、c形成保护层。本发明采用碳纳米管制成的触控层具有较高的电导率和较低的方块电阻，不仅使触控元件具有很好的触控性能，还能降低该触控产品的成本，本发明具有良好的抗弯曲、耐刮擦和抗敲击特性，而且具有较低的光反射率。

技术领域

本发明涉及触摸屏领域，尤其涉及一种柔性触控元件及其制备方法。

背景技术

随着显示技术的飞速发展，柔性可触控显示已经成为显示领域的发展方向，现有技术通常采用透明导电材料ITO、金属网格等作为触控显示产品中的触控元件，但是这些材料形成的触控元件的机械强度和柔韧性较差，由此决定了其不能很好地应用于柔性显示产品。同时，上述材料的触控元件电导率较低，方块电阻较高，要确保柔性触控显示产品的良好性能，不可避免地也会增加柔性触控显示产品的制作成本。

发明内容

本发明旨在解决现有技术的不足，而提供一种柔性触控元件及其制备方法。

本发明为实现上述目的，采用以下技术方案：一种柔性触控元件，包括基材、连接在基材上表面的触控层和连接在触控层上表面是保护层，所述触控层包括由下到上依次层叠的第一阻挡层、第一触控电极、第二阻挡层、第二触控电极和阻水层，所述保护层包括由下到上依次层叠的光学补偿层、支撑层和抗反射层。

特别的，所述基材为硬化处理的光学级PET基材。

特别的，所述第一阻挡层和所述第二阻挡层均为由氧化硅绝缘材质制成的阻挡层。

特别的，所述第一触控电极和所述第二触控电极均为由碳纳米管膜制成。

特别的，所述阻水层为由表面涂覆有氧化硅的PET基材制成的阻水层。

特别的，所述支撑层为有机膜。

特别的，所述抗反射层为由硅氧化物组成的无机复合膜。

一种柔性触控元件的制备方法，包括如下步骤：

a清洗基材

用丙酮和无水乙醇混合溶剂对基材进行处理和清洗，清洗后用离子水对基材进行冲洗，然后用氮气吹干；

b形成触控层

在基材上沉积第一阻挡层，在第一阻挡层上沉积并图案化形成第一触控电极，然后在第一触控电极上沉积第二阻挡层，在第二阻挡层上沉积并图案化形成第二触控电极，在第二触控电极上形成阻水层；

c形成保护层

利用湿法涂布方法，在阻水层上形成光学补偿层，所述光学补偿层的折射率范围为0.8-2.5，所述光学补偿层的厚度为120-280nm；

利用湿法涂布将支撑层转印到所述光学补偿层上，所述支撑层的厚度为30-70um；

在支撑层上形成抗反射层，所述抗反射层的折射率为0.8-3，所述抗反射层的厚度为120-280nm。

特别的，每层形成后需要采用离子水进行清洗并用氮气干燥。

特别的，所述步骤b在强氧化性材料的环境中进行操作，所述强氧化性材料为二氧化氮或溴。

本发明的有益效果是：本发明采用碳纳米管制成的触控层具有较高的电导率和较低的方块电阻，不仅使触控元件具有很好的触控性能，还能降低该触控产品的成本，本发明具有良好的抗弯曲、耐刮擦和抗敲击特性，而且具有较低的光反射率。

附图说明