[发明专利]用于电触点组件中的两排矩形通孔的制造方法

说明书

本发明公开了一种用于开尔文触点组件的制造方法，所述开尔文触点组件通过限制触点在触点接近接触被测器件DUT的位置处的水平运动而在触点的接触DUT的端部处实现高精度的接近垂直的运动，所述制造方法包括以下步骤：将所述触点组件的壳体的坯件制备成所需的轮廓；在所述壳体的底侧处将成一排的多个下槽加工至预定深度；以及在所述壳体的顶侧处将前槽和后槽加工至刚好达到所述下槽的深度的深度，所述前槽和所述后槽彼此平行且垂直于所述下槽；使得通过所述下槽、所述前槽和所述后槽的并置形成两排虚拟矩形通孔。

技术领域

本发明涉及一种用于集成电路测试设备中的电触点组件的制造方法，并且具体涉及一种通过限制触点在其触点端附近的水平运动来实现高精度垂直运动的制造方法。

背景技术

集成电路IC测试设备中的开尔文接触测试通常使用悬臂式触点，其中以悬臂以及部件组装类型的形式形成触点，其中两种触点都组装在电绝缘体上。对于这两种类型，通常都存在较大的累积公差，这使得用于精细调倾的组装变得困难。

此外，使用壳体来固定悬臂触点的开尔文触点组件很复杂且难以安装。最终的结果是安装时间长，导致停机。

用于开尔文测试设备的悬臂触点设计的另一个问题是它们产生宽公差，导致器件垫上的开尔文缝隙不均匀和过度擦拭问题以及引脚尖端上的毛刺碰撞。悬臂式触点设计也在针脚共平面性方面存在问题。当将悬臂针脚切割成形时，会产生其自身的公差分布，并导致不均匀或所谓的钢琴效应piano effect。这种结果是不理想的，会对测试产生负面影响。

本领域需要克服上述缺点的开尔文触点组件的制造方法。

发明内容

本发明试图通过提供一种开尔文触点组件的制造方法来克服前述缺点，该触点组件通过限制触点在触点接近接触被测器件DUT的位置处的水平运动而在触点的接触DUT的端部处实现高精度的接近垂直的运动。

本发明因此涉及一种用于电触点组件中的两排虚拟矩形通孔的制造方法，包括以下步骤：

将所述触点组件的壳体的坯件制备成所需的轮廓；

在所述壳体的底侧处将成一排的多个下槽加工至预定深度；

将所述壳体顶部的前槽和后槽加工至刚好达到所述下槽的深度相同的深度，所述前槽和所述后槽彼此平行并垂直于所述下槽；

使得通过所述下槽、所述前槽和所述后槽的并置形成两排虚拟矩形通孔。

在本发明的一个优选实施例中，使用CNC机床和端铣刀完成下槽、前槽和后槽的加工。除了所述CNC机床外，还使用计算机辅助制造CAM程序来加工下槽、前槽和后槽。

在另一个优选实施例中，壳体由诸如工程塑料的非导电材料构成。

在又一个优选实施例中，本发明的制造方法进一步包括在对所述下槽、所述前槽和所述后槽进行所述加工期间，利用诸如机械虎钳的机械装置将所述壳体夹持就位的步骤。

根据以公开的技术方案，比其他目的和优点将更加明显。

附图说明

图1示出了本发明的实施例中的第一阶段之后的触点组件壳体的坯件。

图2a示出了本发明的实施例中的第二阶段之后的触点组件的底视图。

图2b示出了本发明的实施例中的第二阶段之后的触点组件的近距离底视图。

图3a示出了本发明的实施例中的第三阶段之后的触点组件的顶视图。

图3b示出了本发明的实施例中的第三阶段之后的触点组件的近距离顶视图。