[发明专利]基于DMD的原子荧光多通道检测光源杂质干扰校正方法有效

专利信息
申请号: 201810477122.8 申请日: 2018-05-18
公开(公告)号: CN108693155B 公开(公告)日: 2020-09-01
发明(设计)人: 田地;张雅茹;陶琛;李春生;王宏霞 申请(专利权)人: 吉林大学
主分类号: G01N21/64 分类号: G01N21/64
代理公司: 长春吉大专利代理有限责任公司 22201 代理人: 王淑秋
地址: 130012 吉*** 国省代码: 吉林;22
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摘要:
搜索关键词: 基于 dmd 原子 荧光 通道 检测 光源 杂质 干扰 校正 方法
【权利要求书】:

1.一种基于DMD的原子荧光多通道检测光源杂质干扰校正方法,其特征在于包括下述步骤:

步骤一:建立原子荧光元素特征谱线库;利用基于数字微镜阵列全谱原子荧光光谱仪的色散荧光检测系统对N种元素的标准溶液进行测试,得到N种元素的实测荧光谱线值;将N种元素的实测荧光谱线值与理论荧光谱线值比对,得到N种元素的标准荧光特征谱线并将其存入原子荧光元素特征谱线库;

步骤二:设要进行多通道检测的元素有n个,其中包括待测元素及待测元素的空心阴极灯含有的m个杂质元素,m=n-1;用待测元素的空心阴极灯照射待测样品,应用基于数字微镜阵列全谱原子荧光光谱仪的色散荧光检测系统对荧光信号进行采集并对生成的谱图进行扣背景处理,得到包含待测元素及m个杂质元素荧光谱线的原子荧光谱图;

步骤三:分别用m个杂质元素的空心阴极灯轮流照射待测样品,应用基于数字微镜阵列全谱原子荧光光谱仪的色散荧光检测系统对荧光信号进行采集并对生成的谱图进行扣背景处理;得到m个杂质元素对应的原子荧光谱图,其中每个原子荧光谱图仅包含一种杂质元素荧光谱线;

步骤四:对步骤二中得到的原子荧光谱图进行谱峰识别,将识别出的谱峰与存储在原子荧光元素特征谱线库中各个元素的标准荧光特征谱线进行对比,找出属于待测元素和属于各个杂质元素的谱峰;针对属于任意一个杂质元素的谱峰的荧光强度求总和得到该杂质元素的总荧光强度,由此得到m个杂质元素的总荧光强度

针对步骤三中得到的m个原子荧光谱图,分别对每个原子荧光谱图中的谱峰荧光强度相加,得到属于各个杂质元素的荧光总强度根据式(1)求得各个杂质元素的干扰系数

步骤五:应用基于数字微镜阵列全谱原子荧光光谱仪的非色散荧光检测系统,分别轮流用含有m个杂质元素的待测元素空心阴极灯和m个杂质元素空心阴极灯照射待测样品,对待测样品产生的荧光强度进行多通道检测;其中用含有m个杂质元素的待测元素空心阴极灯照射待测样品时,其测得的荧光强度为轮流用m个杂质元素空心阴极灯照射待测样品时,其测得的荧光强度分别为

步骤六:根据步骤五中测得的用含有m个杂质元素的待测元素空心阴极灯照射待测样品时产生的荧光强度和轮流用各个杂质元素空心阴极灯照射待测样品时产生的荧光强度以及步骤四中求出的杂质元素的干扰系数通过式(2)求出用非色散荧光检测系统进行多通道检测时用待测元素空心阴极灯照射待测样品时样品中的杂质元素产生的荧光强度总和TInter,再通过式(3)便可求得扣除光谱杂质干扰后样品中待测元素产生的荧光总强度IFpur

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