[发明专利]一种灰度掩模图形的分层提取方法

说明书

本发明涉及微纳光学领域，具体为一种灰度掩模图形的分层提取方法；包括如下步骤：步骤一：读取灰度掩模图片的灰度阶数并二进制化；步骤二：根据不同灰度阶数提取不同灰度阶数的二进文件；步骤三：定义每单元像素的大小1μm×1μm；步骤四：将不同灰度的二进制文件转成GDS图片格式，定义左下角像素在GDS格式中坐标为(1,1)。

技术领域

本发明涉及微纳光学领域，具体为一种灰度掩模图形的分层提取方法。

背景技术

随着微光学器件的不断发展，微光学逐渐成为连接光学与电子学的桥梁，形成了以硅为载体的硅微电子器件，微光学与传统的微机电系统(MEMS)结合形成了应用更广泛的微光机电系统(MOMES)。其中微光学元件(MOE)是制作MOMES系统和阵列化和集成化的光学元件。MOE有着独特的色散特性、丰富的设计自由度以及较高的光学转换效率可以实现特定的光学功能。其中衍射光学元件(DOE)是主要的微光学元件如微透镜阵列，光栅阵列等。

随着微纳加工技术的不断发展，为了得到衍射效率更高的DOE器件，表面微纳机构从二台阶变为多台阶甚至近似连续分布。目前主要用于制备多台阶DOE器件的主要技术有：激光或电子束直写技术、灰度掩模技术以及二元套刻技术。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种种灰度掩模图形的分层提取方法。

发明解决其技术问题所采用的技术方案是：一种灰度掩模图形的分层提取方法，包括如下步骤：

步骤一：读取灰度掩模图片的灰度阶数并二进制化；

步骤二：根据不同灰度阶数提取不同灰度阶数的二进文件；

步骤三：定义每单元像素的大小1μm×1μm；

步骤四：将不同灰度的二进制文件转成GDS图片格式，定义左下角像素在GDS格式中坐标为(1,1)。

发明的有益效果是：本发明的灰度掩模图形的分层提取方法可以将含有灰阶信息的BMP图片进行分层提取处理成GDS格式图片，用于套刻；可以将多层套刻图形处理成灰度掩模图形，用于灰度掩模光刻。

附图说明

图1为本发明的灰度掩模图形的分层提取方法的示意图。

具体实施方式

现在结合附图对发明作进一步详细的说明。这些附图均为简化的示意图，仅以示意方式说明发明的基本结构，因此其仅显示与发明有关的构成。

一种灰度掩模图形的分层提取方法，包括如下步骤：

步骤一：读取灰度掩模图片的灰度阶数并二进制化；

步骤二：根据不同灰度阶数提取不同灰度阶数的二进文件；

步骤三：定义每单元像素的大小1μm×1μm；

步骤四：将不同灰度的二进制文件转成GDS图片格式，定义左下角像素在GDS格式中坐标为(1,1)。

本发明的灰度掩模图形的分层提取方法可以将含有灰阶信息的BMP图片进行分层提取处理成GDS格式图片，用于套刻；可以将多层套刻图形处理成灰度掩模图形，用于灰度掩模光刻。

以上述依据发明的理想实施例为启示，通过上述的说明内容，相关工作人员完全可以在不偏离本项发明技术思想的范围内，进行多样的变更以及修改，本项发明的技术性范围并不局限于说明书上的内容，必须要根据权利要求范围来确定其技术性范围。