[发明专利]一种光谱基线校正方法及系统

权利要求书

1.一种光谱基线校正方法，其特征在于，包括：

获取测量光谱；

对所述测量光谱进行形态学处理，得到光谱基线；所述形态学处理包括开运算处理以及闭运算处理；分别对测量光谱进行形态学处理的开运算和闭运算，流程如下：

(1)初始化斜率参数，构建线性结构体；其中，斜率参数根据经验构建，处理的斜率参数为4；斜率参数是该线性结构体的参数，线性结构体为一个二维矩阵，线性结构体内的斜线经过的位置是1，其它位置是0；该二维矩阵的列数与光谱维数相同，行数设定为固定值7；

(2)利用线性结构体分别对测量光谱进行开运算和闭运算；

(3)分别得到开运算光谱和闭运算光谱；

(4)设定第一固定系数，开运算光谱乘第一固定系数，闭运算光谱乘第二固定系数；乘固定系数是为了在迭代过程中准确的估计基线，即加权处理；由于基线形状是未知的，为了自适应估计基线形状，需要根据从实测数据中获取基线信息；在迭代过程中，需要从开运算光谱和闭运算光谱中提取基线信息，随着迭代进行，计算基线将向真正基线靠近；第一固定系数选取为0.5；

(5)将两者结构相加，即：光谱基线Bs＝TopS×q+BotS×(1-q)；Bs为光谱基线，TopS为开运算光谱，BotS为闭运算光谱，q为第一固定系数，1-q为第二固定系数；

根据所述测量光谱初始化截断光谱；所述截断光谱为所述测量光谱截取的一部分光谱；所述截断光谱的光谱维度与所述光谱基线的光谱维度相同；

判断所述光谱基线与所述截断光谱之差的模长是否大于模长阈值，得到第一判断结果；

若所述第一判断结果表示为所述光谱基线与所述截断光谱之差的模长大于模长阈值，根据所述截断光谱确定线性结构体；所述线性结构体为关于所述测量光谱的二维矩阵；

根据所述线性结构体对所述测量光谱重新进行形态学处理，得到新的光谱基线；

若所述第一判断结果表示为所述光谱基线与所述截断光谱的模长不大于模长阈值，确定所述光谱基线为校正后的光谱基线。

2.根据权利要求1所述的光谱基线校正方法，其特征在于，所述根据所述截断光谱确定线性结构体，具体包括：

获取所述截断光谱的最小值的第一绝对值以及所述截断光谱的最大值的第二绝对值；

判断所述第一绝对值是否大于所述第二绝对值，得到第二判断结果；

若所述第二判断结果表示为所述第一绝对值大于所述第二绝对值，确定所述测量光谱的特征峰为向下的吸收峰，并确定所述测量光谱与所述光谱基线之间的最大值为截断光谱；

若所述第二判断结果表示为所述第一绝对值不大于所述第二绝对值，确定所述测量光谱的特征峰为向上的发射峰，并确定所述测量光谱与所述光谱基线之间的最小值为截断光谱；

根据所述截断光谱确定光谱斜率；

根据所述光谱斜率确定线性结构体。