[发明专利]一种低透过率的膜片和盖板在审
申请号: | 201810480575.6 | 申请日: | 2018-05-18 |
公开(公告)号: | CN108859349A | 公开(公告)日: | 2018-11-23 |
发明(设计)人: | 裴立志;李素云;汪会婷;胡良云;冯毅;邱泽银;周伟杰 | 申请(专利权)人: | 信利光电股份有限公司 |
主分类号: | B32B27/08 | 分类号: | B32B27/08;B32B27/36;B32B9/00;B32B9/04 |
代理公司: | 广州粤高专利商标代理有限公司 44102 | 代理人: | 邓义华;廖苑滨 |
地址: | 516600 广东省汕*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 透过率 膜片 盖板 基材 镀膜层 半透 显示效果 第二面 波段 覆盖 | ||
1.一种低透过率的膜片,包括基材,具有相对的第一面和第二面;所述基材的第一面上覆盖有PMMA颗粒;所述基材的第二面上设有半透镀膜层,所述半透镀膜层的透过率为40-60%。
2.如权利要求1所述的膜片,其特征在于,所述基材的材质为PET或PC。
3.如权利要求1所述的膜片,其特征在于,所述基材的厚度为20-200微米。
4.如权利要求1所述的膜片,其特征在于,所述PMMA颗粒的粒径为10-200微米。
5.如权利要求1所述的膜片,其特征在于,所述半透镀膜层由多层氧化钛层和多层氧化硅层交替层叠而成。
6.如权利要求5所述的膜片,其特征在于,所述半透镀膜层由八层膜组成,依次为第一氧化钛层、第一氧化硅层、第二氧化钛层、第二氧化硅层、第三氧化钛层、第三氧化硅层、第四氧化钛层、第四氧化硅层。
7.如权利要求6所述的膜片,其特征在于,所述第一氧化钛层、第一氧化硅层、第二氧化钛层、第二氧化硅层、第三氧化钛层、第三氧化硅层、第四氧化钛层、第四氧化硅层的厚度分别为:60-150nm、40-80nm、40-80nm 、30-80nm 、80-150nm、10-40nm、80-140nm、60-100nm。
8.如权利要求5所述的膜片,其特征在于,与所述基材的第二面相接触的为氧化硅层。
9.一种盖板,所述盖板的外表面贴设有权利要求1-8任一项所述的膜片。
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