[发明专利]利用羧基修饰的碳纳米管抑制聚二甲基硅氧烷表面生物膜中真核生物附着生长的方法在审

专利信息
申请号: 201810485784.X 申请日: 2018-05-21
公开(公告)号: CN108753154A 公开(公告)日: 2018-11-06
发明(设计)人: 谷庆泽;张艾涵;张治洲;刘作霖;孙源;王莹;王昕 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学(威海)
主分类号: C09D183/04 分类号: C09D183/04;C09D5/16;C09D7/62;C12Q1/6895
代理公司: 北京汇捷知识产权代理事务所(普通合伙) 11531 代理人: 李宏伟
地址: 264209 山东省威海市文*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 真核生物 污损 聚二甲基硅氧烷 表面生物 羧基修饰 附着 生长 多壁碳纳米管 生物技术领域 纳米添加剂 表面附着 成膜体系 复合涂层 碳纳米管 丰度 制备 添加剂 多样性 引入
【权利要求书】:

1.一种利用羧基修饰的多壁碳纳米管抑制PDMS表面生物膜中真核生物附着生长的方法,该方法主要包括:不同种类羧基修饰的多壁碳纳米管cMWNTs-聚二甲基硅氧烷PDMS复合涂层的制备,污损生物样品的采集与制备,不同cMWNTs-PDMS复合涂层表面污损真核生物群落结构的测定,检测真核生物群落结构信息并进行分子生态学评价。

2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所采用的cMWNTs主要为羧基修饰的碳纳米管,其羧基含量在0.5-5%之间,粒径8-100纳米,长度10-50微米,纯度不低于95%,比表面积40-600m2/g。

3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于所采用的有机硅树脂为美国道康宁公司生产的Sylgard 184弹体(含有A,B两个成分)。cMWNTs-PDMS复合涂层的制备方法为cMWNTs与组分A共混后充分混匀,之后再添加组分B充分混匀(A、B组分重量比10:1),105℃固化35-60min。

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