[发明专利]一种靶材、靶材制备方法及装置在审
申请号: | 201810489753.1 | 申请日: | 2018-05-21 |
公开(公告)号: | CN108425096A | 公开(公告)日: | 2018-08-21 |
发明(设计)人: | 王云能 | 申请(专利权)人: | 米亚索乐装备集成(福建)有限公司 |
主分类号: | C23C14/35 | 分类号: | C23C14/35 |
代理公司: | 北京尚伦律师事务所 11477 | 代理人: | 毛宏宝 |
地址: | 362000 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 靶材 端段 制备方法及装置 背衬管 中间段 时长 消耗 | ||
本发明是关于一种靶材、靶材制备方法及装置。该靶材包括:背衬管;形成于背衬管的外表面的靶材体;其中,靶材体包括:两个端段和中间段;其中,所述端段的第一靶材厚度大于所述中间段的第二靶材厚度。该技术方案增加了靶材体的端段的厚度,延长靶材在使用过程中的消耗时长,从而防止靶材体两端先耗光,提高靶材的利用率。
技术领域
本发明涉及材料领域,尤其涉及一种靶材、靶材制备方法及装置。
背景技术
靶材是通过磁控溅射在适当工艺条件下溅射在基板上形成各种功能薄膜的溅射源;其中,磁控溅射的原理包括:电子在电场的作用下,在飞向基片过程中与氩原子发生碰撞,使其电离产生出Ar正离子和新的电子;新电子飞向基片,Ar离子在电场作用下加速飞向阴极靶,并以高能量轰击靶表面,使靶材发生溅射。在溅射粒子中,中性的靶原子或分子沉积在基片上形成薄膜,靶材原子逐渐被轰击并沉积在基体上。
目前,靶材的形状主要有平面靶和旋转靶。对于旋转靶,一般均做成等轴圆柱形。但是,靶材一般运用于磁控溅射中,考虑到端部电磁场强度较高,离子轰击端部靶材的概率也较高,因此端部靶材消耗也较快。从而造成靶材体两端先耗光,而中间的靶材残留较多,从而造成靶材的有效利用率较低,无形中增加了生产成本。
发明内容
本发明实施例提供一种靶材、靶材制备方法及装置;本发明实施例需要解决靶材的有效利用率低的问题,所述技术方案如下:
根据本发明实施例的第一方面,提供一种靶材,包括:
背衬管;
形成于所述背衬管的外表面的靶材体;
其中,所述靶材体包括:两个端段和中间段;其中,所述端段的第一靶材厚度大于所述中间段的第二靶材厚度。
本发明的实施例提供的技术方案可以包括以下有益效果:增加了靶材体的端段的厚度,延长靶材在使用过程中的消耗时长,从而防止靶材体两端先耗光,提高靶材的利用率。
在一个实施例中,所述靶材体还包括:
位于所述两个端段和所述中间段之间的过渡段,其中,所述过渡段的靶材厚度沿中轴的方向从所述第一靶材厚度逐渐减小到所述第二靶材厚度;所述过渡段、中间段和端段的材料都相同。
在一个实施例中,所述靶材还包括:
形成于所述背衬管和所述靶材体之间的粘结层;
其中,所述粘结层的材料粘度大于所述靶材体的材料粘度,所述粘结层和所述靶材体的材料成分相同,但材料成分配比不同。
在一个实施例中,所述靶材还包括:
形成于靶材体与粘结层之间的起始层;
其中,所述起始层的材料与所述靶材体的材料相同,但所述起始层和所述靶材体的制备工艺不同。
在一个实施例中,所述过渡段的斜度的范围在3-30°之间。
根据本发明实施例的第二方面,提供一种靶材制备方法,包括:
对背衬管上两个预设端段位置喷涂第一靶材,得到靶材体的两个端段;所述端段的厚度为所述预设端段位置上喷涂所述第一靶材得到的第一靶材厚度;
对所述背衬管上预设中间段位置喷涂所述第一靶材,得到所述靶材体的中间段;所述中间段的厚度为所述预设中间段上喷涂所述第一靶材得到的第二靶材厚度;
其中,所述第一靶材厚度大于所述第二靶材厚度
在一个实施例中,所述对背衬管上两个预设端段位置喷涂第一靶材包括:
按照第一速度对所述背衬管上两个预设端段位置喷涂第一靶材,得到靶材体的两个端段;
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