[发明专利]高强度陶瓷眼镜架及其制备方法

权利要求书

1.高强度陶瓷眼镜架，其特征在于：按照重量百分比，包括如下原料组分：氧化锆70～80％、氧化铝5～10％、二氧化硅5～10％、高岭土2～5％、环氧树脂1～5％、钛白粉0.5～1.5％、催化剂0.3～0.5％、煅烧氧化锌0.2～0.4％、氧化铈0.04～0.06％、氧化钇0.4～0.6％和金刚砂0.1～0.3％。

2.根据权利要求1所述的高强度陶瓷眼镜架，其特征在于：按照重量百分比，包括如下组分：氧化锆75％、氧化铝8％、二氧化硅8％、高岭土4％、环氧树脂3％、钛白粉0.8％、催化剂0.3％、煅烧氧化锌0.3％、氧化铈0.05％、氧化钇0.45％和金刚砂0.1％。

3.一种如权利要求1或2中所述的高强度陶瓷眼镜架的制备方法，其特征在于：包括如下步骤：

(1)将上述陶瓷眼镜架的原料细化至纳米颗粒级粉料后按照配比混合，再送至成型装置中进行冷压成型，得到眼镜架坯体；

(2)将眼镜架坯体经过烘干窑进行干燥；

(3)在干燥后的眼镜架坯体的表面淋一层颜色釉；

(4)入梭式窑进行高温煅烧，即可获得高强度的陶瓷眼镜架。

4.根据权利要求3所述的高强度陶瓷眼镜架的制备方法，其特征在于：步骤(1)中还包括陈腐工序，将陶瓷眼镜架的原料细化至纳米颗粒级粉料后，陈腐24小时。

5.根据权利要求3所述的高强度陶瓷眼镜架的制备方法，其特征在于：步骤(2)中所述眼镜架坯体进行干燥后的水分含量＜1％。

6.根据权利要求3所述的高强度陶瓷眼镜架的制备方法，其特征在于：步骤(4)中所述高温煅烧的温度为1180-1370℃。

7.根据权利要求3所述的高强度陶瓷眼镜架的制备方法，其特征在于：步骤(4)中，所述高温煅烧包括如下步骤：

阶段一：控制梭式窑的温度在室温-200℃范围内，缓慢升温，保持3-5小时；

阶段二：控制梭式窑的温度在200℃-650℃范围内，保持2-4小时；

阶段三：控制梭式窑的温度在650℃-1050℃范围内，低温烧成2-3小时；

阶段四：控制梭式窑的温度在1050℃-1200℃范围内，中温烧成2-3小时；然后再升至1200℃-1370℃，进行高火保温1-2小时；

阶段五：将梭式窑的温度降至1370℃-650℃，加冷风快速冷却1-2小时；

阶段六：继续将梭式窑的温度降至650℃-300℃，缓慢冷却3-5小时，直至降至300℃以下后，出窑自然冷却2～3小时，即可获得高强度的陶瓷眼镜架。