[发明专利]烹饪设备、烹饪控制方法、烹饪控制装置及存储介质

说明书

本发明提供了一种烹饪设备，包括：锅体；内锅，设置在锅体中；上盖，盖设于锅体上，并与内锅配合形成密闭空间，且上盖上设置有排气装置；加热装置，设置于锅体的底部，用于对内锅进行加热；控制装置，控制装置被配置在烹饪设备执行设定烹饪程序时控制加热装置对内锅加热，且当密闭空间内的温度达到第一预设温度时，控制排气装置启动进入排气阶段，以排出密闭空间内的冷气，直至排气阶段结束。相应的还提出了烹饪控制方法、烹饪控制装置和计算机可读存储介质。该技术方案中，当烹饪设备的密闭空间内的温度达到预设温度后，再控制排气装置启动排出密闭空间内的冷气，可以有效地提高排气装置的排气效率，进而保证密闭空间内温度检测的准确性。

技术领域

本发明涉及生活电器技术领域，具体而言，涉及烹饪设备、烹饪控制方法、烹饪控制装置和计算机可读存储介质。

背景技术

随着人们生活水平的提高，电压力锅作为传统高压锅的替代产品越来越得到广泛的应用，并且受到了广大消费者的爱戴，但是电压力锅在进行烹饪前，密闭空间内会留有冷空气，若不能将其排出，在电压力锅运行时，密闭空间内的冷气会影响顶部温控器测温的准度。

发明内容

本发明旨在至少解决现有技术或相关技术中存在的技术问题之一。

为此，本发明提出了一种新的烹饪设备，当烹饪设备的密闭空间内的温度达到预设温度后，再控制排气装置启动排出密闭空间内的冷气，可以有效地提高排气装置的排气效率，以将密闭空间内的冷气快速而高效地排出干净，进而可以保证密闭空间内温度检测的准确性。

本发明的其他目的在于对应提出了烹饪控制方法、烹饪控制装置和计算机可读存储介质。

为实现上述至少一个目的，根据本发明的第一方面，提出了一种烹饪设备，包括：锅体；内锅，设置在锅体中；上盖，盖设于锅体上，并与内锅配合形成密闭空间，且上盖上设置有排气装置；加热装置，设置于锅体的底部，用于对内锅进行加热；控制装置，控制装置被配置在烹饪设备开始执行设定烹饪程序时控制加热装置对内锅加热，且当密闭空间内的温度达到第一预设温度时，控制排气装置启动进入排气阶段，以排出密闭空间内的冷气，直至排气阶段结束。

在该技术方案中，当烹饪设备开始执行设定烹饪程序通过加热装置对内锅进行加热时，在上盖和内锅配合形成的密闭空间内还存在有冷气，而该密闭空间内的冷气会影响到获取密闭空间内的温度的准确性，进而影响烹饪效果，因此，需要将密闭空间内存在的冷气通过排气装置尽数排出，具体地，在加热装置对内锅进行加热的过程中，内锅中的气体会受热膨胀，随着密闭空间内温度的升高，密闭空间内气体的压力会逐渐增大，从而对排气装置形成由密闭空间内部向外作用的力，因此在密闭空间内的温度达到第一预设温度，即密闭空间内气体的压力增强到一定程度时，控制排气装置启动进入排气阶段，此时密闭空间内的冷空气会在气体压力的推动下自密闭空间快速而高效地排出，如此，有效地提高了排气装置的排气效率，以将密闭空间内的冷气迅速地排放干净，进而保证了密闭空间内温度检测的准确性。

在上述技术方案中，优选地，控制装置具体被配置为：统计烹饪设备处于排气阶段的第一累计时间；判断第一累计时间是否达到第一预设时间；当判定第一累计时间达到第一预设时间时，控制排气装置停止运行，以使烹饪设备退出排气阶段。

在该技术方案中，当控制排气装置启动运行使烹饪设备进入排气阶段时即开始计时，统计出烹饪设备处于排气阶段的第一累计时间，为了能够将密闭空间内的冷气充分排出，同时防止因排气时间过长而将密闭空间内热的气体过多排出而影响密闭空间内的气压，进而影响烹饪效果，则可以在统计的第一累计时间达到第一预设时间时，控制排气装置停止排气，以使烹饪设备退出排气阶段。

在上述任一技术方案中，优选地，控制装置具体被配置为：在烹饪设备进入排气阶段后，且当密闭空间内的温度达到第二预设温度时，控制开始计时，以统计烹饪设备继续处于排气阶段的第二累计时间；判断第二累计时间是否达到第二预设时间；当判定第二累计时间达到第二预设时间时，控制排气装置停止运行，以使烹饪设备退出排气阶段。