[发明专利]一种二极管生产工艺有效
申请号: | 201810491384.X | 申请日: | 2018-05-21 |
公开(公告)号: | CN108648990B | 公开(公告)日: | 2021-04-23 |
发明(设计)人: | 李慧;肖松松 | 申请(专利权)人: | 宁波慧亮光电有限公司 |
主分类号: | H01L21/02 | 分类号: | H01L21/02;H01L21/67;B08B3/08;B08B3/10 |
代理公司: | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人: | 邹仕娟 |
地址: | 315470 浙*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 二极管 生产工艺 | ||
本发明属于二极管制造技术领域,具体的说是一种二极管生产工艺,该工艺采用酸洗机,该酸洗机包括箱体、摆动模块、放置盒和酸洗板;箱体底部设有摆动模块,摆动模块用于向箱体内注入酸液,摆动模块上端设有放置盒;放置盒位于箱体中部,酸洗板安装在放置盒内;酸洗板用于放置二极管。通过一边注入酸液,一边将酸液导出进行杂质过滤,增加酸液流动性,提高酸洗效率;摆动模块在向箱体内注入酸液的同时使得放置盒摆动,增加酸液的流动性。本发明通过在摆动模块上端设有放置盒,酸洗板安装在放置盒内,通过摆动模块在向箱体内注入酸液的同时使得放置盒摆动,增加酸液的流动性,提高二极管酸洗效率。
技术领域
本发明属于二极管制造技术领域,具体的说是一种二极管生产工艺。
背景技术
二极管,是电子元件当中,一种具有两个电极的装置,只允许电流由单一方向流过。二极管最普遍的功能就是只允许电流由单一方向通过(称为顺向偏压),反向时阻断(称为逆向偏压)。因此,二极管可以想成电子版的逆止阀。
现有的二极管表面酸洗工艺一般是通过酸洗盘和酸洗槽,酸洗盘设置于酸洗槽上,酸洗盘上设置有漏酸孔,将洗涤二极管表面的酸液流入到酸洗槽中,经过处理后,能够回收利用。酸洗过程中要使用混合酸、双氧水等化学试剂对二极管的表面进行处理,混合酸通常由硝酸、硫酸、氢氟酸和乙酸等按一定比例混合而成。
现有技术中也出现了一些二极管酸洗的技术方案,如申请号为2015109190538的一项中国专利公开了二极管制造领域内的二极管酸洗机,包括包括酸洗槽、底座、酸液箱。所述酸洗槽位于底座的上端,所述酸洗槽一侧的底座上设有竖向的支架,所述酸液箱固定在支架靠近酸洗槽的一侧,所述酸液箱位于酸洗槽的上方,酸液箱的底部设有供液管。所述支架的顶端设有集流罩,集流罩的顶端设有抽风机,抽风机上连接有排气管。所述集流罩位于酸洗槽的上方,集流罩下端的外侧壁上铰接有转轴,转轴上固定有透明的隔离布。
该技术方案的酸洗工艺是通过超声波震板使酸洗过程中二极管与酸液充分接触;而在超声波清洗时,由于发生空化作用时会产生上千个大气压力,能够破坏不溶性污物,但同时也会对物件产生破坏,造成二极管损伤。
发明内容
为了弥补现有技术的不足,本发明提出的一种二极管生产工艺,该工艺采用酸洗机,该酸洗机通过在摆动模块上端设有放置盒,酸洗板安装在放置盒内,通过摆动模块在向箱体内注入酸液的同时使得放置盒摆动,增加酸液的流动性,提高二极管酸洗效率。
本发明解决其技术问题所采用的技术方案是:本发明所述的一种二极管生产工艺,该工艺包括以下步骤:
步骤一:将石墨舟放在排线机上,排线机把引线导入石墨舟内,将二极管的芯片装入石墨舟内;
步骤二:将步骤一中的石墨舟送入焊接炉内,使二极管的芯片与金属引线连接;
步骤三:将步骤二中的二极管放在酸洗机内进行酸洗;
步骤四:将步骤三中的二极管清洗并烘干,用治具上绝缘保护胶,再经固化工艺,促使绝缘保护胶完全固化;
步骤五:对步骤四中固化好的二极管进行表面处理,测试后进行成品包装;
其中,所述的酸洗机包括箱体、摆动模块、放置盒和酸洗板;所述箱体底部设有摆动模块,所述摆动模块用于向箱体内注入酸液,所述摆动模块上端设有放置盒;所述放置盒位于箱体中部,所述酸洗板安装在放置盒内;所述酸洗板用于放置二极管。通过一边注入酸液,一边将酸液导出进行杂质过滤,增加酸液流动性,提高酸洗效率;杂质过滤装置非本案创新之处,在此不做详述;摆动模块在向箱体内注入酸液的同时使得放置盒摆动,增加酸液的流动性。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于宁波慧亮光电有限公司,未经宁波慧亮光电有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810491384.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种单晶碳化硅衬底晶片清洗方法
- 下一篇:一种晶圆片光刻工艺
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造