[发明专利]一种蓝宝石光学镜片的磨抛制作工艺在审
申请号: | 201810494422.7 | 申请日: | 2018-05-22 |
公开(公告)号: | CN108527013A | 公开(公告)日: | 2018-09-14 |
发明(设计)人: | 朱同武;朱立芳 | 申请(专利权)人: | 安徽全兆光学科技有限公司 |
主分类号: | B24B1/00 | 分类号: | B24B1/00;C09G1/02;C09K3/14 |
代理公司: | 合肥市长远专利代理事务所(普通合伙) 34119 | 代理人: | 杨霞 |
地址: | 246500 安徽省安庆*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 蓝宝石 精磨 光学镜片 磨料 制作工艺 抛光液 粗磨 磨抛 硅烷聚二乙醇醚 三乙醇胺油酸皂 表面粗糙度Ra 纳米二氧化硅 蓝宝石晶片 蓝宝石镜片 六偏磷酸钠 重量百分比 二甲基胺 工艺生产 去离子水 抛光 抛光机 研磨机 放入 粒径 切割 清洗 | ||
本发明公开了一种蓝宝石光学镜片的磨抛制作工艺,包括如下步骤:将切割过的蓝宝石晶片放入研磨机中,加入粗磨液,粗磨;加入精磨液,精磨;加入超精磨液,超精磨,获得蓝宝石超精磨料;将蓝宝石超精磨料放置在抛光机上,加入抛光液,抛光,清洗,得到蓝宝石镜片,所述抛光液按重量百分比组成为:粒径为1‑50nm的纳米二氧化硅15‑35%,MgF20.1‑1%,三乙醇胺油酸皂0.01‑1%,硅烷聚二乙醇醚0.2‑2%,六偏磷酸钠0.1‑2%,二甲基胺0.1‑3%,余量为去离子水。由该工艺生产的蓝宝石光学镜片,表面质量极高,表面粗糙度Ra值低至0.1nm。
技术领域
本发明涉及蓝宝石研磨抛光技术领域,尤其涉及一种蓝宝石光学镜片的磨抛制作工艺。
背景技术
蓝宝石(Sapphire)俗称“刚玉”,又称白宝石。它是氧化铝的单晶形态,分子式为Al2O3,晶体结构为六方,晶格常数为a=b=0.4758nm,c=1.2991nm。蓝宝石具有良好的光学、热学、介电性能和优良的力学性能,同时具有优良的化学稳定性和热稳定性能以及抗辐射性能,是一种综合性能优良的多功能晶体材料,而被广泛应用于精密仪器仪表、激光器的窗口和反射镜、半导体外延衬底材料、绝缘的集成芯片等。
蓝宝石的加工工艺基本流程为长晶、切片、研磨、抛光与清洗。蓝宝石的研磨抛光技术是制约其在光电领域发展的瓶颈问题之一,如何提高蓝宝石晶片的表面质量,已成为下一代蓝宝石研磨抛光所面临的关键问题。
发明内容
基于背景技术存在的问题,本发明提出了一种蓝宝石光学镜片的磨抛制作工艺,由该工艺生产的蓝宝石光学镜片,表面质量极高,表面粗糙度Ra值低至0.1nm。
本发明提出了一种蓝宝石光学镜片的磨抛制作工艺,包括如下步骤:
S1、将切割好的蓝宝石晶片放入研磨机中,加入粗磨液,研磨,研磨时间为2-3h,获得蓝宝石粗磨料;
S2、将S1中获得的蓝宝石粗磨料放入研磨机中,加入精磨液,研磨,研磨时间为1-2h,获得蓝宝石精磨料;
S3、将S2中获得的蓝宝石精磨料放入研磨机中,加入超精磨液,研磨,研磨时间为0.5-1h,获得蓝宝石超精磨料;
S4、将S3中获得的蓝宝石超精磨料放置在抛光机上,加入抛光液,抛光0.5-1h,清洗,得到蓝宝石镜片,所述抛光液按重量百分比组成为:粒径为1-50nm的纳米二氧化硅15-35%,MgF2 0.1-1%,三乙醇胺油酸皂0.01-1%,硅烷聚二乙醇醚0.2-2%,六偏磷酸钠0.1-2%,二甲基胺0.1-3%,余量为去离子水。
优选地,S1中,所述粗磨液按重量百分比组成为:粒径为30-50um的金刚石18-40%,羟丙基纤维素0.01-1%,椰油酰单乙醇胺0.1-2%,余量为水。
优选地,S2中,所述精磨液按重量百分比组成为:粒径为5-20um的金刚石15-35%,羟丙基纤维素0.01-1%,椰油酰单乙醇胺0.1-2%,余量为水。
优选地,S3中,所述超精磨液按重量百分比组成为:粒径为0.3-2um的金刚石15-30%,羟丙基纤维素0.01-1%,椰油酰单乙醇胺0.1-2%,余量为水。
优选地,S4中,所述抛光液按重量百分比组成为:粒径为2-30nm的纳米二氧化硅16-30%,MgF2 0.2-0.9%,三乙醇胺油酸皂0.05-0.9%,硅烷聚二乙醇醚0.3-1.8%,六偏磷酸钠0.2-1.5%,二甲基胺0.2-2%,余量为去离子水。
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