[发明专利]墨滴滴落位置偏移的校正方法、装置和系统

权利要求书

1.一种墨滴滴落位置偏移的校正方法，所述方法包括：

控制喷墨打印头在玻璃基板上的预设的测试区域内的多个测试单元区域内设定的理想位置坐标处滴落墨滴；其中，所述预设的测试区域为在玻璃基板上的像素坑阵列所处的区域之外，选择的设定范围的空白区域；其中，所述测试单元区域根据所述玻璃基板的像素坑阵列的单个像素坑的大小确定，且每个测试单元区域对应一个所述理想位置坐标；其中，在所述墨滴滴落在所述玻璃基板上的所述预设的测试区域上之后，所述玻璃基板的像素坑阵列所处的区域能够继续进行正式的喷墨打印工艺；

检测所述滴落墨滴在所述玻璃基板上的所述预设的测试区域内的实测位置坐标；

获取所述实测位置坐标与所述理想位置坐标之间的坐标差值，根据所述坐标差值，获取所述墨滴滴落位置的偏移量；

根据所述偏移量，对喷墨打印头的墨滴滴落位置进行补偿校正。

2.根据权利要求1所述的墨滴滴落位置偏移的校正方法，其特征在于，所述根据所述玻璃基板的像素坑阵列的单个像素坑的大小确定所述测试单元区域的过程包括：

获取玻璃基板上像素坑阵列的尺寸信息，其中，所述尺寸信息包括像素坑的长度和像素坑的宽度；

根据所述像素坑的长度和像素坑的宽度，将所述玻璃基板的像素坑阵列的单个像素坑的大小确定为所述测试单元区域。

3.根据权利要求2所述的墨滴滴落位置偏移的校正方法，其特征在于，所述尺寸信息还包括相邻像素坑在长边方向的间隔长度和相邻像素坑在宽边方向的间隔长度；

所述控制喷墨打印头分别在玻璃基板上的预设的测试区域的多个测试单元区域内设定的理想位置坐标处滴落墨滴包括：

依照所述相邻像素坑在长边方向的间隔长度和相邻像素坑在宽边方向的间隔长度，在玻璃基板上预设的测试区域内，间隔排列设置多个测试单元区域，控制喷墨打印头在各个测试单元区域内同等位置上设定的多个理想位置坐标处滴落墨滴。

4.根据权利要求3所述的墨滴滴落位置偏移的校正方法，其特征在于，所述依照所述相邻像素坑在长边方向的间隔长度和相邻像素坑在宽边方向的间隔长度，在玻璃基板上预设的测试区域内，间隔排列设置多个测试单元区域，控制喷墨打印头在各个测试单元区域内同等位置上设定的多个理想位置坐标处滴落墨滴包括：

获取标记于玻璃基板上的位于所述预设的测试区域内的基准标识的理想位置坐标；

以所述基准标识的理想位置坐标为第一个测试单元区域内的一个墨滴滴落的理想位置坐标，并以该墨滴滴落的理想位置坐标为基准，依照所述相邻像素坑在长边方向的间隔长度和相邻像素坑在宽边方向的间隔长度，确定阵列式间隔排列的其余各个测试单元区域内的各个墨滴滴落的理想位置坐标；

分别控制喷墨打印头在玻璃基板上的所述预设的测试区域内确定的所述各个墨滴滴落的理想位置坐标处滴落墨滴。

5.根据权利要求3或4所述的墨滴滴落位置偏移的校正方法，其特征在于，所述检测所述滴落墨滴在所述玻璃基板上的所述预设的测试区域内的实测位置坐标；获取所述实测位置坐标与理想位置坐标之间的坐标差值，根据所述坐标差值，获取所述墨滴滴落位置的偏移量包括：

分别检测获取各个滴落墨滴在玻璃基板上的所述预设的测试区域内的实测位置坐标，分别计算得到各个滴落墨滴的所述实测位置坐标与所述理想位置坐标之间的坐标差值，并计算各个滴落墨滴的所述坐标差值的平均值，以所述平均值为所述墨滴滴落位置的偏移量。