[发明专利]研磨垫及研磨垫使用寿命监测方法在审
| 申请号： | 201810502527.2 | 申请日： | 2018-05-23 |
| 公开（公告）号： | CN108608317A | 公开（公告）日： | 2018-10-02 |
| 发明（设计）人： | 方青春;蒋阳波;杨俊铖;闵源;李大鹏;刘慧超 | 申请（专利权）人： | 长江存储科技有限责任公司 |
| 主分类号： | B24B37/26 | 分类号： | B24B37/26;G01M13/00;G01B21/02;G01B11/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所有限公司 31100 | 代理人： | 陈力奕 |
| 地址： | 430205 湖北省武汉市洪山区东*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 研磨垫 研磨面 研磨 基材 使用寿命监测 使用寿命 开口 临界值时 实时监测 研磨加工 磨损量 垂直 监测 | ||
1.一种研磨垫，其特征在于，包括：
基材，该基材的厚度方向的一个面为研磨面；以及
窗口，该窗口形成于所述基材的所述研磨面一侧，朝向所述研磨面开口，所述窗口的垂直于所述研磨面的至少一个截面在距离所述窗口的底部一定高度处的宽度是所述高度的增函数或减函数。
2.如权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，
所述增函数是单调增函数，或所述减函数是单调减函数。
3.如权利要求2所述的研磨垫，其特征在于，
所述增函数是线性增函数，或所述减函数是线性减函数。
4.如权利要求3所述的研磨垫，其特征在于，
所述窗口的所述截面呈倒梯形。
5.如权利要求3所述的研磨垫，其特征在于，
所述窗口的所述截面呈倒三角形。
6.如权利要求1所述的研磨垫，其特征在于，
还包括沟槽，该沟槽形成于所述基材的所述研磨面一侧，朝向所述研磨面开口。
7.如权利要求6所述的研磨垫，其特征在于，
当所述研磨面的磨损量超过所述沟槽的允许磨损深度时，所述研磨垫达到使用寿命，
所述窗口的深度大于等于所述允许磨损深度。
8.如权利要求7所述的研磨垫，其特征在于，
所述窗口的深度是0.03英寸～0.04英寸。
9.如权利要求1至8的任一项所述的研磨垫，其特征在于，
所述研磨面呈中心对称形，在所述基材的所述研磨面一侧，从所述研磨面的对称中心向外周等间隔地分布有多条圆环形的所述沟槽，
至少在相邻的两条所述沟槽之间，沿圆周方向等间隔地分布有多个所述窗口。
10.一种研磨垫使用寿命监测方法，所述研磨垫包括：
基材，该基材的厚度方向的一个面为研磨面；以及
窗口，该窗口形成于所述基材的所述研磨面一侧，朝向所述研磨面开口，所述窗口的垂直于所述研磨面的至少一个截面在距离所述窗口的底部一定高度处的宽度是所述高度的增函数或减函数，
所述研磨垫使用寿命监测方法的特征在于，
在使所述研磨垫旋转来进行研磨加工时，对所述窗口的所述截面在所述研磨面处的宽度进行监测，
当所述窗口的所述截面在所述研磨面处的宽度随着所述研磨面的磨损量的增加而达到宽度临界值时，判断为所述研磨垫达到使用寿命。
11.如权利要求10所述的研磨垫使用寿命监测方法，其特征在于，
所述增函数是单调增函数，或所述减函数是单调减函数。
12.如权利要求11所述的研磨垫使用寿命监测方法，其特征在于，
所述增函数是线性增函数，或所述减函数是线性减函数。
13.如权利要求12所述的研磨垫使用寿命监测方法，其特征在于，
所述窗口的所述截面呈倒梯形。
14.如权利要求12所述的研磨垫使用寿命监测方法，其特征在于，
所述窗口的所述截面呈倒三角形。
15.如权利要求10所述的研磨垫使用寿命监测方法，其特征在于，
所述研磨垫还包括沟槽，该沟槽形成于所述基材的所述研磨面一侧，朝向所述研磨面开口。
16.如权利要求15所述的研磨垫使用寿命监测方法，其特征在于，
当所述研磨面的磨损量超过所述沟槽的允许磨损深度时，所述研磨垫达到使用寿命，
所述窗口的深度大于等于所述允许磨损深度。
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