[发明专利]一种用于基板光配向的掩膜版及光配向的方法

权利要求书

1.一种用于基板光配向的掩膜版，其特征在于，包括重复交替设置的透光区和反射区，所述反射区包括至少一个垂直设置的反射镜，经过所述透光区的光线以原入射角度方向到达基板表面，经过所述反射区的光线经所述反射镜反射后到达基板表面；多个反射镜在列方向上等间隔的内嵌在反射区的内部，一个反射镜的吸收层表面到其相邻反射镜的反射层表面之间的距离为D，且D≤H*tanθ，其中H为所述反射镜高度，θ为入射光线与所述反射镜的夹角。

2.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区和反射区的宽度相等，光线从透光区到达基板表面的光线方向和从反射区到达基板表面的光线方向呈镜像对称。

3.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述反射镜包括反射层、基底层以及吸收层，其中所述反射层面向光线入射方向。

4.根据权利要求1所述的掩膜版，其特征在于，所述透光区还包括位于出光侧的阻挡部。

5.根据权利要求4所述的掩膜版，其特征在于，所述阻挡部和所述反射镜并列对应设置。

6.一种对基板进行光配向的方法，其特征在于，采用具有重复交替设置的透光区和反射区的掩膜版，所述反射区包括至少一个垂直设置的反射镜，经过所述透光区的光线以原入射角度方向到达基板表面，经过所述反射区的光线经所述反射镜镜面反射后到达基板表面；所述反射镜吸收部分经过相邻反射镜反射的光线。

7.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，所述透光区阻挡部分光线的通过。

8.根据权利要求6所述的方法，其特征在于，通过所述透光区和反射区的光线方向对称且光线量相等。