[发明专利]一种常开型GaN FET的直接驱动电路有效

专利信息
申请号: 201810505115.4 申请日: 2018-05-24
公开(公告)号: CN108696268B 公开(公告)日: 2021-09-24
发明(设计)人: 李先允;常印;倪喜军 申请(专利权)人: 南京工程学院
主分类号: H03K3/021 分类号: H03K3/021
代理公司: 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 代理人: 饶欣
地址: 210000 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 常开 gan fet 直接 驱动 电路
【说明书】:

发明公开了一种常开型GaN FET的直接驱动电路,包括驱动输入模块、LVMOS驱动模块、欠压保护模块、CSD模块和过电流保护模块,驱动输入模块输出信号至LVMOS驱动模块、CSD模块和JFET管J1,欠压保护模块和过电流保护模块分别输出信号至驱动输入模块,CSD模块分别连接欠压保护模块、LVMOS驱动模块、JFET管J1的漏极和GaN FET管F1的栅极,JFET管J1的源极分别连接P型LVMOSFET管L1的漏极和欠压保护模块,P型LVMOSFET管L1的源极分别连接欠压保护模块和GaN FET管F1的源极,P型LVMOSFET管L1的栅极连接LVMOS驱动模块,GaN FET管F1的漏极连接过电流保护模块。本发明能够降低开关损耗。

技术领域

本发明涉及电力电子领域,特别是涉及一种常开型GaN FET的直接驱动电路。

背景技术

作为第三代半导体材料的代表,GaN具有宽禁带、高临界击穿电场、高饱和电子漂移速度、高电子迁移率及导热率高等优点,适用于高频、高压、高温、大功率等场合。在众多的GaN晶体管类型中,耗尽型GaN晶体管的技术较为成熟,与増强型器件相比,耗尽型器件由于它的常开型特性导致设备的安全性降低,故耗尽型器件在电力电子装置中应用较少。为了方便GaN的应用,器件厂商通过Cascode结构(共源共栅结构)将高压的耗尽型GaN晶体管与低压的Si MOSFET结合起来,组成增强型GaN晶体管,但是低压NMOS的开关损耗将大大增加增强型GaN晶体管的开关损耗,并且由于是通过控制NMOS的导通和关断来间接控制增强型GaN晶体管的源极电位,所以可控性也存在一定不足。除此之外,在高频化、大功率密度的应用场合中,传统电压型驱动方式带来了一些缺点:驱动电路中的RC充放电电路使得栅极有效驱动电流受栅极驱动电压的影响而减小,导致开关时间和开关损耗的增加;栅极电容储存的能量在开关过程中被消耗,这种驱动损耗与开关频率成正比。为了减小高频驱动损耗,谐振驱动技术应运而生,通过谐振电路回收驱动能量,减小损耗,但是谐振过程的延迟会使得驱动电流从零开始增长,降低开关速度,增加开关损耗。

发明内容

发明目的:本发明的目的是提供一种能够降低开关损耗的常开型GaN FET的直接驱动电路。

技术方案:为达到此目的,本发明采用以下技术方案:

本发明所述的常开型GaN FET的直接驱动电路,包括驱动输入模块、LVMOS驱动模块、欠压保护模块、CSD模块和过电流保护模块,驱动输入模块输出信号至LVMOS驱动模块、CSD模块和JFET管J1,欠压保护模块和过电流保护模块分别输出信号至驱动输入模块,CSD模块分别连接欠压保护模块、LVMOS驱动模块、JFET管J1的漏极和GaN FET管F1的栅极,JFET管J1的源极分别连接P型LVMOSFET管L1的漏极和欠压保护模块,P型LVMOSFET管L1的源极分别连接欠压保护模块和GaN FET管F1的源极,P型LVMOSFET管L1的栅极连接LVMOS驱动模块,GaN FET管F1的漏极连接过电流保护模块。

进一步,所述驱动输入模块包括光耦合器OC1和光耦合器OC2,光耦合器OC1的输入端、光耦合器OC2的输出端分别连接控制单元。

进一步,所述欠压保护模块包括欠压锁定单元UVLO,欠压锁定单元UVLO的输出端连接驱动输入模块,欠压锁定单元UVLO的正电压输入端分别连接CSD模块、LVMOS驱动模块、线性调压器X1的正电压输入端、电容CVreg的一端、电容CVEE的一端、辅助电源FZ1的正电压输出端、GaN FET管F1的源极和P型LVMOSFET管L1的源极,欠压锁定单元UVLO的负电压输入端分别连接线性调压器X1的输出端、CSD模块、LVMOS驱动模块和电容CVreg的另一端,线性调压器X1的负电压输入端分别连接电容CVEE的另一端、二极管D3的阳极和辅助电源FZ1的负电压输出端,电容CVreg的另一端还连接二极管D2的阳极,二极管D2的阴极分别连接二极管D3的阴极和P型LVMOSFET管L1的漏极。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于南京工程学院,未经南京工程学院许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201810505115.4/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top