[发明专利]触控显示面板及其制作方法

说明书

本发明提供一种触控显示面板及其制作方法，该制作方法包括先在一基板上形成触控层，所述触控层包括遮光层、触控图案层、桥接层、周围走线和绑定垫；再在所述触控层上形成彩膜层，以形成彩膜触控基板，所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻以及保护层；最后将所述彩膜触控基板、薄膜晶体管基板与液晶或OLED显示层进行封装,以形成所述触控显示面板。本发明通过在彩膜基板上先制作触控层再制作彩膜层，使得彩膜工艺与触控工艺互不干涉，提高了触控显示面板的成品率；另外，桥接层与周围走线和绑定垫通过一次构图工艺制成，简化了制作工艺，节约了制造成本。

技术领域

本发明涉及显示技术领域，尤其涉及一种触控显示面板及其制作方法。

背景技术

随着信息时代的发展及生活节奏的加快，触控技术由于其人性化的设计及简单快捷的输入等特点，已逐渐取代传统的鼠标和键盘，广泛地应用到各种电子产品中，其中，电容式触摸屏由于具有反应速度快，灵敏度高，可靠性佳等优点而被广泛使用。

根据触控感测层在显示面板中的设置方式不同，触控显示面板分为外挂式(Addon Mode)、内嵌式(In-cell)和外嵌式(On-cell)等结构。内嵌式触摸屏将触控功能整合于显示屏内，因而能够有效的减少整个显示器的厚度并简化生产工艺，使得产品更加轻薄，生产成本更低。对于内嵌式(in-cell)触摸屏，现有技术通常是将触摸屏结构直接设置在阵列基板上，主要是在阵列基板中将用于传输显示信号的一些结构部件复用为触控电极，例如，将数据线和扫描线、或者是将公共光阻层复用为触控电极，然后控制这些结构部件分时地传递显示信号和触控信号。

这种结构的内嵌式触摸屏：在结构上，由于触控电极是复用了用于传输显示信号的结构部件，阵列基板上结构部件的集成度很高，其制备工艺难度很大；其次，由于结构部件的集成度很高，触控信号的稳定性也难以控制、集成的触控结构对显示性能的干扰也显得更加严重；另外，在信号的驱动方面，采用分时驱动的方式，对驱动芯片的要求极为苛刻，大幅度增加了成本。

综上所述，现有的内嵌式(in-cell)触控显示面板，存在触控信号不稳定，触控结构干扰其显示性能的问题，进而导致显示面板的成品率不高。

发明内容

本发明提供一种触控显示面板的制作方法，以解决现有的触控显示面板，由于触控信号难以控制，且触控结构对显示性能干扰严重，进而影响显示的技术问题。

为解决上述问题，本发明提供的技术方案如下：

本发明提供一种触控显示面板的制作方法，包括：

步骤S 10，提供一基板，在所述基板上形成触控层，其中，所述触控层包括遮光层，触控图案层，绝缘层，桥接层，周围走线、和绑定垫；

步骤S20，在所述触控层上形成平坦层，所述平坦层覆盖所述触控图案层和所述桥接层；

步骤S30，在所述平坦层上形成彩膜层，以形成触控彩膜基板；所述彩膜层包括黑色矩阵、彩色色阻、保护层和/或光阻层；

步骤S40，将所述触控彩膜基板、薄膜晶体管基板和显示层进行封装，以形成所述触控显示面板。

根据本发明一优选实施例，所述桥接层采用ITO或者石墨烯制备；所述周围走线和所述绑定垫采用金属材料制备。

根据本发明一优选实施例，所述桥接层、所述周围走线和所述绑定垫均采用同种金属材料制备。

根据本发明一优选实施例，通过一次构图工艺形成所述桥接层、所述周围走线以及所述绑定垫。

根据本发明一优选实施例，所述桥接层的宽度小于或等于所述黑色矩阵的宽度。

根据本发明一优选实施例，所述触控图案层采用ITO(Indium tin oxide，氧化铟锡)或者石墨烯等透光性良好的材料制备。