[发明专利]一种阵列式移液吸头清洗装置及清洗方法

权利要求书

1.一种阵列式移液吸头清洗装置，多个所述移液洗头呈阵列分布，且固定在可升降的移液组件上，其特征在于：包括清洗槽、水位监测装置和超声波振子，所述清洗槽上连接有进水管和出水管，所述水位监测装置固定设置在所述清洗槽内，所述超声波振子固定设置在所述清洗槽底部。

2.根据权利要求1所述的一种阵列式移液吸头清洗装置，其特征在于：还包括进水槽和出水槽；

所述进水槽固定设置在所述清洗槽的第一侧面，所述进水槽与所述清洗槽之间通过设置在所述进水槽和所述清洗槽上部的小孔连通，所述进水管与进水槽连通；

所述出水槽设置在所述清洗槽的第二侧面，所述第二侧面与所述第一侧面相对设置，所述出水槽通过出水口与所述清洗槽连通，所述排水管与所述出水槽连通。

3.根据权利要求1所述的一种阵列式移液吸头清洗装置，其特征在于：所述清洗槽的下方设置有电路槽，所述超声波振子的驱动电路固定设置在所述电路槽内，所述超声波振子穿过所述清洗槽的底面设置在所述清洗槽的底面中心处，且所述超声波振子与所述清洗槽的底面密封连接。

4.根据权利要求2所述的一种阵列式移液吸头清洗装置，其特征在于：所述清洗槽的底面倾斜设置，且沿所述进水槽朝向所述出水槽的方向下倾斜，所述清洗槽的底面的倾斜角度为1°～5°。

5.根据权利要求1所述的一种阵列式移液吸头清洗装置，其特征在于：所述清洗槽的顶部设置有顶盖，所述顶盖上设置有供所述移液洗头穿过的条形通槽。

6.根据权利要求1所述的一种阵列式移液吸头清洗装置，其特征在于：所述水位监测装置包括高水位监测接线柱和低水位监测接线柱，所述高水位监测接线柱安装在所述清洗槽的上部，所述低水位监测接线柱安装在所述出水槽的下部。

7.根据权利要求1所述的一种阵列式移液吸头清洗装置，其特征在于：所述进水管和所述出水管上均设置有电磁阀，所述电磁阀的信号端与所述水位监测装置的信号端电连接。

8.一种基于上述清洗装置的清洗方法，其特征在于：包括以下步骤：

S1、水位监测装置检测检测清洗槽内水位，如果水位过低，则通过进水管对清洗槽进行补水；

S2、通过控制移液组件使阵列式移液吸头下移，穿过盖板上的条形通槽，没入至清洗槽的液位至下；

S3、超声波振子启动工作；

S4、移液吸头反复吸排水，持续一段时间；

S5、出水管电磁阀开启，进水管电磁阀关闭，排出清洗槽内的水；

S6、出水管电磁阀关闭，进水管电磁阀开启，对清洗槽进行补水；

S7、循环步骤S4-S6N次；

S8、上移移液吸头，脱离清洗位置；

S9、关闭超声波振子；

S10、上移移液洗头至清洗准备位。