[发明专利]高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法在审
| 申请号： | 201810509361.7 | 申请日： | 2018-05-24 |
| 公开（公告）号： | CN108707870A | 公开（公告）日： | 2018-10-26 |
| 发明（设计）人： | 刚爽;杨晔;朱永明 | 申请（专利权）人： | 宁波森利电子材料有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/35 | 分类号： | C23C14/35;C23C4/067;C23C4/134 |
| 代理公司： | 北京众合诚成知识产权代理有限公司 11246 | 代理人： | 文芳 |
| 地址： | 315171 浙江省宁*** | 国省代码： | 浙江;33 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 制备 靶材 背管 喷涂粉末 旋转靶材 硅铝 等离子喷涂工艺 预处理 质量百分比 制备硅铝 打底层 烘干箱 烘干 对靶 硅粉 混粉 铝粉 喷涂 | ||
1.高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，包括以下步骤：
(1)制备喷涂粉末；
(2)预处理靶材背管；
(3)对靶材背管喷涂打底层；
(4)用等离子喷涂工艺在靶材背管上制备硅铝靶材。
2.根据权利要求1所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤(1)中，制备喷涂粉末的方法为：以质量百分比计，将90％-92％的硅粉与8％-10％的铝粉混合后，在V型混粉机中均匀混粉4-6小时，然后在90—110°的烘干箱中烘干4-6小时。
3.根据权利要求2所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述硅粉纯度不低于99.9％，该硅粉中，以质量百分比计，20％-50％的硅粉的粒度为125-160μm，其余硅粉粒度为45-125μm。
4.根据权利要求2所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述铝粉纯度不低于99.9％、粒度为75-100μm。
5.根据权利要求1所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤(2)中，预处理靶材背管的方法为：超声波清洗，然后喷砂粗化。
6.根据权利要求1所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤(3)中，对靶材背管喷涂打底层为：采用电弧喷涂法在靶材背管表面喷涂镍铝合金。
7.根据权利要求1所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤(4)中，用等离子喷涂工艺在靶材背管上制备硅铝靶材的过程中，喷涂工装的主轴转速为200-240r/min，喷枪与背管间的喷涂距离控制为100-130mm，喷枪的移动速度为2000—2400mm/min。
8.根据权利要求1所述的高致密度的硅铝旋转靶材的制备方法，其特征在于：所述步骤(4)中，用等离子喷涂工艺在靶材背管上制备硅铝靶材的过程中，控制靶材表面温度不超过90℃。
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