[发明专利]一种小粒径氧化钴的制备方法

权利要求书

1.一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，具体按照以下步骤实施：

步骤1，配置钴溶液和碳酸氢铵溶液；

步骤2，将所述步骤1的钴溶液和碳酸氢铵溶液加入底液中进行合成反应和浓缩，并控制反应过程的pH值为7.0±0.3，制得碳酸钴粗品；

步骤3，对所述步骤2的碳酸钴粗品进行循环除铁、洗涤、干燥，制得碳酸钴干料；

步骤4，将所述步骤3的碳酸钴干料进行煅烧，制得氧化钴。

2.根据权利要求1所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤1中配置钴溶液的具体方法为：向配制槽中加入浓度为145-150g/L的钴溶液，再加入纯水以700-900r/min的速度进行搅拌25-35min，之后静置8-12min得钴溶液。

3.根据权利要求2所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤1中配置碳酸氢铵溶液的具体方法为：将纯水置于配置槽中，同时通过所述配置槽内部的蒸汽盘管对纯水进行加热；当温度升至45-60℃时，按照1∶4.25-4.65的体积比向纯水中加入碳酸氢铵固体，同时搅拌至碳酸氢铵全部溶于纯水，静置后得碳酸氢铵溶液。

4.根据权利要求3所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤2中底液的具体配制方法为：给反应釜中加入水，升温至30-60℃后，加入浓度为210-250g/l的碳酸氢铵溶液，即得底液。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤2的具体实施步骤为：

步骤2.1，对底液进行加热至30-50℃；

步骤2.2，向所述步骤2.1的底液中同时加入钴溶液和碳酸氢铵溶液进行合成反应；

步骤2.3，当所述步骤2.2的合成反应进行4-6h后，反应釜内溶液开始溢流至溢流静置槽中，通过溢流槽底部的循环泵将沉淀的物料打回至反应釜中继续反应；

步骤2.4，随着反应继续进行1.5-2.5h后，溢流静置槽的溶液开始溢流至浓缩过滤器中，抽出上层清液，将剩余物料返回反应釜中继续进行沉淀反应，得碳酸钴粗品。

6.根据权利要求5所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤3中循环除铁2-3h。

7.根据权利要求6所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤3中洗涤在离心机中进行，所述离心机的转速为300-350r/min。

8.根据权利要求7所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤3中干燥的具体方法为：通过行吊将碳酸钴粗品投至闪蒸机中，干燥水分至0.5％以下。

9.根据权利要求8所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述步骤4的煅烧在回转窑中进行。

10.根据权利要求9所述的一种小粒径氧化钴的制备方法，其特征在于，所述回转窑设置有5个温区，温度分别为：480-600℃、600-660℃、660-700℃、700-720℃、720-750℃。